光电工程师社区

标题: 求助AR光谱镀膜改进 [打印本页]

作者: cai004 时间: 2014-5-28 13:27
标题: 求助AR光谱镀膜改进
本帖最后由 cai004 于 2014-6-3 15:14 编辑

红色的是客户给的样品
另一条是我做的

是2层AR TIO2+SIO2

如何让光谱左移是不是要增加TIO2的厚度？
尽量和客户一致

谢谢大家我弄好了是TIO2多了一些
现在光谱图很好
因为是磁控溅射做所以以前的H4啊之类的都不能用
而且蒸发成膜速率比磁控快很多
太厚的膜系又不行影响生产效率
厂里也没有膜厚仪之类的测试

作者: rollo_tomasi 时间: 2014-5-28 13:27
看来是个620nm左右的单点AR，目前看来是镀厚了，但还无法分析是H偏多还是L偏多，建议你结合自己常做的可见区AR，估计H和L的比例系数是否正常。
你可以先试着减少TiO2，减少量需要自己把握，然后测试曲线观察效果，透射峰向短波方向移动的多少。注意，透射率不要出现下降，如果透射率也下降，那就是SiO2偏多l !

作者: zouyou828459 时间: 2014-5-28 21:29
本帖最后由 zouyou828459 于 2014-5-30 23:50 编辑

各位膜友，此话我收回，希望和大家一起讨论更多的镀膜话题。

作者: tfc 时间: 2014-5-29 08:57
红色弯曲厉害，你自己的比较平滑，说明H太少，L太多。

作者: cai004 时间: 2014-5-29 08:59
因为是用磁控溅射做AR 没有晶控没有光控
膜厚未知的情况下做
基底是PMMA
所以个人感觉比蒸发难很多

作者: tfc 时间: 2014-5-29 15:26
按时间，每次变化5%时间

作者: HGcoating 时间: 2014-5-29 15:55
1、稳定功率后TIO2溅射20分钟，SIO2溅射10分钟，测量厚度　计算折射率，计算时间平均每秒多少厚度　。
2、设计膜系，计算每层厚度需要时间

作者: rollo_tomasi 时间: 2014-5-29 15:57
那就只能靠时间控制了

作者: 李昌瑞 时间: 2014-5-30 13:44
围观一下，没做过CVD

作者: 宇宙深处 时间: 2014-5-30 14:55
从光谱来看确实比较简单的一个膜，1.52/2HL/1.0 的结构就可以达成。（H:TI3O5 ,L:SIO2）只楼主提到没有膜厚监控设备。其实膜厚监控最原始的设备就是人眼，从视窗观察基材的颜色变化就能比较准确判断膜厚。当然控制时间也是一种方法，只是它与蒸发速率、真空度有很大的关系，不容易控制的很准确。

作者: zouyou828459 时间: 2014-5-30 23:26
本帖最后由 zouyou828459 于 2014-5-30 23:47 编辑

[quote]zouyou828459 发表于 2014-5-28 21:29

此位大侠说的有道理，我这次是没仔细看清楚那个曲线，就向楼主发“飚”了，向楼主致歉，希望楼主做好个产品，我给您添乱了。

作者: 踏歌前行 时间: 2014-5-31 13:59

zouyou828459 发表于 2014-5-30 23:26
[quote]zouyou828459 发表于 2014-5-28 21:29
此位大侠说的有道理，我这次是没仔细看清楚那个曲线，就向楼 ...

这样的膜系是单点AR膜,不是很难做的.

作者: 踏歌前行 时间: 2014-5-31 14:01

踏歌前行发表于 2014-5-31 13:59
这样的膜系是单点AR膜,不是很难做的.

为什么不换成H4做,透过率更高.

作者: 吉喵 时间: 2014-8-9 18:26
学习学习

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