光电工程师社区

标题: 钛硅靶材，TiSi靶材，TiSiN涂层靶材 [打印本页]

作者: matworld1311 时间: 2015-5-15 16:34
标题: 钛硅靶材，TiSi靶材，TiSiN涂层靶材
TiSi靶材，80/20at,99.9%，直径115mmX厚30mm

用于制作TiSiN涂层，

构成了氮化物硬质涂层的优异材料。硅可保证优异的抗氧化性，而钛能确保涂层具有极高的硬度。两种材料组合起来，即使在很高温度下也具有耐磨性。

钛硅氮涂层耐磨性极强，能够帮助您实现高速机加工。即使机加工时不使用冷却剂也没有问题。利用钛硅氮化物涂层工具，即使对镍基合金和钛基合金等非常坚韧的材料，都可轻松加工

本公司还生产，工具刃具镀膜中还使用Ti靶材，Cr靶材，AlTi靶材，TiSiCe靶材，AlCrMgSi靶材，CrNiAlSi靶材，TiAlV靶材，WC靶材，TiAlSiMg靶材，VZr靶材等

本工厂拥有真空热压炉4台，其中18英寸2台，14英寸1台，3英寸1台，及熔炼炉6台，及后段加工设备

LaB6 靶材,熔点2230℃,密度4.7g/cm3 ,电阻率15μΩ·cm, 维氏硬度 27.7 Gpa

TiB2 靶材,熔点2980℃,密度4.5g/cm3,电阻率9~15μΩ·cm,维氏硬度 33.5 Gpa

ZrB2靶材,熔点3040℃,密度6.1g/cm3,电阻率7~10μΩ·cm,维氏硬度 22.5 Gpa

HfB2靶材,熔点3250℃,密度11.2g/cm3,电阻率10~12μΩ·cm,维氏硬度 29 Gpa

NbB2靶材,熔点3000℃,密度7g/cm3,电阻率12~65μΩ·cm,维氏硬度26 Gpa

TaB2靶材,熔点3100℃,密度12.6g/cm3,电阻率14~68μΩ·cm,维氏硬度25 Gpa

CrB2靶材,熔点1950℃,密度5.2g/cm3,电阻率21~56μΩ·cm,维氏硬度18Gpa

MoB2靶材,熔点2250℃,密度7.7g/cm3,电阻率20~40μΩ·cm,维氏硬度12Gpa

W2B5靶材,熔点2200℃,密度13.1g/cm3,电阻率21~56μΩ·cm,维氏硬度26.5Gpa

纯度:99.5~99.9% ,致密度高,工艺:真空热压,

单片最大尺寸:直径14英寸(355mm),长260mmX宽200mmX厚20mm

江西科泰新材料有限公司
JIANG XI KETAI ADVANCED MATERIAL CO., LTD.

联系人(Contact person)：邹勇  (TOM)
手机(Mobile phone ):+86-18970055068  +86-15270016479  QQ:1416554081
电话(TEL)：+86-791-88108711-22    传真(FAX)：+86-791-88101211

联系地址：江西省南昌市红谷滩新区红谷中大道1378号
邮编：330038
工厂地址：江西省高安市工业园通城大道
电邮：sales10@mat-world.com

欢迎光临光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/)