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标题: 磁流变液体光学及半导体元件抛光方法 [打印本页]

作者: 风轻扬 时间: 2015-7-12 18:53
标题: 磁流变液体光学及半导体元件抛光方法
磁流变液体光学及半导体元件抛光方法
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出　　处：《技术与市场》 2014年第21卷第8期 399-399页,共1页
Technology and Market
摘　　要：磁流变抛光工艺（TMP）是终端计算机控制的半导体抛光，几何精确率高，这种抛光在磁场的作用下充分利用了磁流变液体（MRZH），在这种磁场下液体的粘稠会增加可塑性，可以抛光各种材料。项目描述：磁流变抛光工艺（TMP）借助于各种结构的磁流变模具（MMP，是插图中所展示的各种磁流变模具之一）实施抛光。磁流变模具（MMP）属于基础车床，其示意图和结构不受光学和半导体零件材料的型号及品种限制，磁流变抛光设备完全是自动化的，电脑控制，而且它区别于传统抛光设备，不用给每个需要抛光的部分测量尺寸。
关键词：磁流变液体半导体元件抛光工艺光学零件材料抛光设备计算机控制电脑控制

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