标题: 复合磨粒抛光技术研究现状与展望 [打印本页] 作者: 风轻扬 时间: 2015-7-12 19:08 标题: 复合磨粒抛光技术研究现状与展望 复合磨粒抛光技术研究现状与展望
Research and Prospect of Composite Abrasive Polishing Technology
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作 者：朱良健 滕霖 白满社
ZHU Liangjian, TENG Lin, BAI Manshe （AVIC Xi＇an Flight Automatic Control Research Institute, Xi~an 710065）
机构地区：中国航空飞行自动控制研究所,西安710065
出 处：《材料导报》 CSCD 2014年第28卷第13期 122-125页,共4页
Materials Review
基 金：航空重点基金（20130818005）
摘 要：复合磨粒抛光技术具有抛光速率高、面形精度好、表面缺陷少等优点,已成为当前的研究热点.综述了复合磨粒抛光技术中核壳型复合磨粒的制备方法、表征技术和作用机理的研究现状,指出了当前复合磨粒抛光技术存在的问题与不足,并对其发展方向进行了展望.
Composite abrasive polishing has becoming the research focus due to the high polishing rate, high surface figure accuracy and less surface defects. The preparation method, characterization technique of core-shell structured composite abrasives and the function mechanism in polishing are reviewed. The problems and insufficiency of the present studies, the future trend of the technology are discussed.
关键词：抛光 复合磨粒 核壳型
polishing, composite abrasive, core-shell structured ;
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