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标题: 溅射镀膜技术在薄膜材料制备上的研究进展 [打印本页]

作者: 遗忘的回忆 时间: 2015-7-12 21:26
标题: 溅射镀膜技术在薄膜材料制备上的研究进展
溅射镀膜技术在薄膜材料制备上的研究进展
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作　　者：李冬雪
机构地区：辽宁装备制造职业技术学院,沈阳110161
出　　处：《电大理工》 2015年第1期 8-9页,共2页
基　　金：2014年辽宁省现代远程教育学会“十二五”规划课题“新型卧式旋转磁控溅射靶极结构设计”（2014XH02-59）
摘　　要：溅射镀膜技术采用高能粒子轰击靶材,溅射出的粒子重新沉积凝聚在固体表面形成薄膜,这种技术在现代薄膜材料制备过程中得到广泛应用。本文阐述了目前直接利用辉光放电中产生的离子进行溅射镀膜技术在单原子金属、半导体材料、绝缘材料、化合物薄膜材料制备工艺的研究进展以及展望。
关键词：镀膜技术磁控溅射射频溅射反应溅射

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