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标题: 真空溅射镀膜 [打印本页]

作者: 遗忘的回忆 时间: 2015-7-12 22:28
标题: 真空溅射镀膜
真空溅射镀膜
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真空技术及应用系列讲座第十九讲真空溅射镀膜.pdf (138.61 KB, 下载次数: 6)
作　　者：张以忱
机构地区：东北大学,辽宁沈阳110004
出　　处：《真空》 2014年第51卷第6期 79-80页,共2页
Vacuum
摘　　要：靶-基距对沉积速率有很大影响，图19给出了S-枪靶的靶基距对沉积速率的影响。从图中可见，随着靶基距的增加，沉积速率呈双曲线状下降。沉积速率随靶-基距的增加而下降是由于靶材粒子在迁移过程中的散射效应引起的。为了提高薄膜的沉积速率，可在保证阴极靶稳定放电和统筹考虑保证膜层厚度均匀性的前提下，尽量减小靶一基距，一般靶基距的最小值为5～7cm。
关键词：溅射镀膜沉积速率真空技术曲线状靶材磁控溅射迁移过程厚度均匀性反应溅射工作气体

作者: 镀膜加游戏 时间: 2015-7-27 15:17
MD　这群里还有骗子。。

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