光电工程师社区
标题:
表面镀膜技术的发展现状
[打印本页]
作者:
遗忘的回忆
时间:
2015-7-12 22:42
标题:
表面镀膜技术的发展现状
表面镀膜技术的发展现状
下载全文
表面镀膜技术的发展现状.pdf
(75.58 KB, 下载次数: 2)
2015-7-12 22:42 上传
点击文件名下载附件
下载积分: 光电贝 -10 元
出 处:《工业加热》 2014年第1期 27-27页,共1页
Industrial Heating
摘 要:传统的表面渗碳、渗氮热处理,工件表面渗层的硬度约为HVl000左右。与此相比,化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)以及等离子化学气相沉积(PCVD)等表面镀膜处理,工件表面硬度高达HV2000以上,因此对耐磨性、耐蚀性、抗高温特性要求较高的工具、金属型膜以及汽车零部件等广泛采用该表面镀膜技术实施表面硬化加工。概述了化学气相沉积、物理气相沉积工艺的特点、用途、存在问题与使用对应注意事项。重点介绍了日本东方工程公司开发的直流脉冲等离子化学气相沉积表面硬化技术的特点、用途、设备构成与实际应用例。
关键词:镀膜技术 表面渗碳 等离子化学气相沉积 物理气相沉积 表面硬化技术 表面硬度 汽车零部件 表面渗层
欢迎光临 光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/)
Powered by Discuz! X3.2