光电工程师社区

标题: 氟化镁MgF2-耐摩擦性问题！ [打印本页]

作者: 士官长 时间: 2015-9-5 22:51
标题: 氟化镁MgF2-耐摩擦性问题！
大家好，请问大家AR膜最外层氟化镁不耐摩擦测试是什么原因？

目前基片加热至290度，蒸发速率5A/s，蒸发时真空在-4Pa级别，无离子源辅助。
成品脱膜测试通过，但在耐磨测试中不合格，用纱布摩擦表面会有痕迹。
大家有没有碰到过这个情况？请问应该如何解决？

作者: gb936 时间: 2015-9-6 18:33
不考虑其他因素，要快速蒸发才牢。

作者: 士官长 时间: 2015-9-6 19:10

gb936 发表于 2015-9-6 18:33
不考虑其他因素，要快速蒸发才牢。

谢谢，请问5A/s算慢还是快？

作者: gb936 时间: 2015-9-7 07:38

士官长发表于 2015-9-6 19:10
谢谢，请问5A/s算慢还是快？

没有工艺？
多层镀都不低于30--50A/s,单层还要高

作者: 士官长 时间: 2015-9-7 12:02
30-50A/s？
我记得氟化镁一般就是10A/s以下的速度？

作者: 诸葛流星 时间: 2015-10-7 09:10
设计中除了MgF2还有什么材料？考虑不同材料间应力和附着力影响

作者: wjwvsly 时间: 2015-10-29 12:31

gb936 发表于 2015-9-7 07:38
没有工艺？
多层镀都不低于30--50A/s,单层还要高

什么镀膜设备，速率30-50A/S ,太牛了吧

作者: 士官长 时间: 2015-10-31 12:59

诸葛流星发表于 2015-10-7 09:10
设计中除了MgF2还有什么材料？考虑不同材料间应力和附着力影响

两种材料：HfO2和MgF2

作者: 诸葛流星 时间: 2015-12-5 21:41
30～50？好吓人啊

作者: 诸葛流星 时间: 2015-12-7 12:56
哪个波段的，换个材料试试

作者: 士官长 时间: 2016-1-7 21:44
请问耐磨性不好的主要原因是薄膜硬度还是粗糙度？
烘烤250-300度左右氟化镁的硬度应该很好呀。

作者: 轩zjw哥 时间: 2018-1-25 22:06
没有高手吗？

作者: 埋头苦学 时间: 2018-7-31 14:33

wjwvsly 发表于 2015-10-29 12:31
什么镀膜设备，速率30-50A/S ,太牛了吧

……这速率……

作者: 埋头苦学 时间: 2018-7-31 14:34
有需求的话最外层硅保护一下呗

作者: tonystack 时间: 2018-9-10 12:15

gb936 发表于 2015-9-7 07:38
没有工艺？
多层镀都不低于30--50A/s,单层还要高

30A，这么快。。。敢问是什么镀膜设备

作者: sgh920 时间: 2019-4-29 17:06

作者: wdydede 时间: 2019-7-1 21:53
30一50A／S也太快了吧！不跳点？

作者: JJK-晶振片-何 时间: 2019-7-3 09:20

作者: yong0009 时间: 2019-7-9 12:03
关注，我的没这现象

作者: 17873333033 时间: 2020-5-20 09:50
5A/s的速率是可以的，你可以选择HFO2和SIO2两种材料搭配，应该会好一些

作者: 光设小菜鸟 时间: 2020-6-8 20:16
可能我还是菜鸟，没遇到过

作者: 17873333033 时间: 2020-6-9 11:15
要不要换一下我家的材料试试，北京富兴凯刘：17873333033

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