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标题: 单枪单电源如何能否制备宽带高反膜？ [打印本页]

作者: mxb010ak47 时间: 2004-11-30 23:15
标题: 单枪单电源如何能否制备宽带高反膜？

南光700型光控机能否制备宽带高反？如何制备？

要求在可见光区400—700nm，R99.9%

请各位高手指教，谢谢！

作者: mxb010ak47 时间: 2004-12-1 02:16

有些人说要制备如上要求的薄膜，必须具备双枪双电源，至少8位孔以上的光控片，是不是这样？

这种膜好像有很多层呢，镀得层数越多，反射率越高，最后可达100%!

需要用对称周期膜堆来做，很费时，不知道是不是这样？

请各位高手赐教！

作者: cjyzq 时间: 2004-12-1 02:39

需90层镀膜，可见光区400—700nm，R99.9% 。

作者: mxb010ak47 时间: 2004-12-1 22:13

90层?!那单枪单坩埚恐怕做不了了，光控机构至少要10孔。

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