光电工程师社区

标题: 请教镀膜SiO2 [打印本页]

作者: renajin 时间: 2004-12-7 22:33
标题: 请教镀膜SiO2

请教各位专家,我公司镀膜SiO2时, 镀膜完毕,擦拭时,镀膜脱落.(牢固度不够)

请问是什么原因啊

作者: zz 时间: 2004-12-8 00:26
和基体特性不匹配；镀前表面污染，其他

作者: cjyzq 时间: 2004-12-8 02:41

工艺问题提高SiO2的蒸发速率。

作者: Leesnow 时间: 2004-12-8 17:10

还有真空度，有没有离子源啊！

作者: renajin 时间: 2004-12-13 23:09
哦

作者: martin1980 时间: 2004-12-13 23:18
你们只镀SIO2么？还有没有镀其他的膜层？

作者: xcy1075 时间: 2004-12-14 01:44
温度多少

作者: sauke 时间: 2004-12-15 07:57
可能与基底温度及洁净度有关。

作者: matta 时间: 2004-12-15 21:38

温度是主要关系，基底的温度在250时表面活性最大，膜与基底结合越牢固。

蒸发速率在18A/S最合适，真空要在2.5E-5Torr以下。

作者: renajin 时间: 2004-12-27 18:46
谢谢了

作者: zjtzzw 时间: 2004-12-29 02:36
先测一下温度达到250度以上和跟真空度2.5*10－5torr 以下

作者: 4366544 时间: 2005-6-28 19:23
你的ＳＩＯ２的蒸发时的放气量是不是已经使真空度变的好低?？

作者: flyinlove79111 时间: 2005-6-28 20:40
基底温度对SiO2成膜影响不大,SiO2冷镀都可以.可能是基底没有处理干净或者反油,还有就是真空度没有达到.不知道你是在什么基底上镀的,和基底结合不牢也有可能,不过可能性不会太大.

作者: zjtzzy 时间: 2005-7-6 17:04
基片是什么材料？如果基片材料没有问题，则可能是镀膜机返油或基片上没洗干净。

作者: snebur 时间: 2005-7-7 06:10
这是不难的问题！提高真空度，调整蒸发速率！以及基板温度的适当选择均可以消除附着力差的问题！
试一下吧，兄弟！

作者: zz 时间: 2005-7-7 15:45
楼主都不发言了,是否已经发现问题并解决问题了?

作者: snebur 时间: 2005-7-11 22:50
基底的温度在250时表面活性最大.镀膜机返油或基片上没洗干净也应该予以考虑！

作者: snebur 时间: 2005-7-11 22:55
基底没有处理干净或者反油，

温度也很重要！温度选择适当！

作者: 经济学的故事 时间: 2005-7-13 00:59
ＴＥＭＰＥＲＡＴＵＲＥ、ＰＲＥＳＳＵＲＥ、ＲＡＴＥ、ＩＯＮ　ＳＯＵＲＣＥ、ＧＬＡＳＳ　ＣＬＥＡＮＩＮＧ、ＶＡＣＵＵＭ　ＤＥＧＲＥＥ、ＦＩＬＭ　ＣＯＴＥＲ　ＭＡＣＨＩＮＥ　ＣＬＥＡＮＩＮＧ

作者: feiying 时间: 2005-7-16 05:44
19楼的兄弟基本上把所有因素都列举出来了呀！
在下想问一下SiO2用多大的蒸镀速率最合适？

作者: 经济学的故事 时间: 2005-7-18 01:35
不好说，根据你的镀膜机器，看你蒸镀条件（开始蒸度真空度，充气体否，有无离子辅助等）。

作者: mingdu 时间: 2005-7-22 22:15
标题: 回复：（renajin）请教镀膜SiO2
你说的现象是明显是附着力不好，通常造成的原因有：清洗工序有问题，本底真空度不够高；真空泵返油而污染腔体真空；靶材质量；工艺真空度不稳定；你采用的沉积方式等诸多原因。单从工艺角度说，采用中频电源磁控溅射的方法沉积SiO2的效果较好。

作者: captainH 时间: 2005-7-27 19:27
他都没把他们具体怎么镀膜说明白，怎么能找的出来原因嘛，实际上脱膜的原因有很多。
找问题也要从实际工作出发哦。

作者: 零点910 时间: 2005-12-23 05:28

有几种可能：1。温度不够；2，真空度不够；3，基板不干净

作者: 2614162 时间: 2005-12-23 18:43

[B]以下是引用[I]captainH[/I]在2005-7-27 11:27:00的发言：[/B][BR]他都没把他们具体怎么镀膜说明白，怎么能找的出来原因嘛，实际上脱膜的原因有很多。
找问题也要从实际工作出发哦。

你有空也教教我如何解决！

作者: yama 时间: 2006-5-26 03:09
也来做个试验,不错的小问题

作者: supplier 时间: 2006-5-27 06:42
镀前用离子源把待镀片表面打热,60-65毫安,7-8分钟.其实用离子源辅助应该不会掉膜.真空度按你们以前正常工艺来不会有问题.搞不好就是扩散泵返油了,一返油不管咋镀绝对掉膜.

作者: flashzhang 时间: 2006-6-4 06:14
对成膜来说，影响最大的肯定是基板温度。温度对活度的影响是平方级别的

作者: cchingoo 时间: 2006-7-16 00:56
楼主都不发言了,是否已经发现问题并解决问题了?

作者: 零点910 时间: 2006-12-19 17:59

真空度，基板温度，基板清洁度，成膜速率都有关系

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