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标题: 南大光电:进军特气、光刻胶,打造电子化学品综合平台 [打印本页]

作者: nanjingbochang 时间: 2015-12-18 14:50
标题: 南大光电:进军特气、光刻胶,打造电子化学品综合平台

1.MO源稳定发展,拓展小体量高毛利品种

公司是全球4大MO 源供应商之一。目前三甲基镓毛利率跌至个位数,下降空间有限。三甲基铟高毛利率维持,目前已成为MO 源业务主要盈利来源。此外,公司将继续加强小品种高毛利的MO 源研发生产。未来MO 源业务稳定增长,净利润估计保持为5000-6000万元。

2.16年高纯高纯砷烷、磷烷放量,打造电子特气大平台

特气市场规模广阔,仅我国半导体制造用电子气体15年将达32.8亿元。公司15吨高纯砷烷、35吨磷烷生产线16年将正式投产,投产后将打破国外垄断,实现进口替代。公司高纯砷烷、磷烷价格3000-3500元/ 千克,毛利率50%以上。此外,包括高纯四(二甲氨基)钛在内的储备产品已经研发并实现小批量生产,未来有望以现有产品为依托推出更多IC 制程特种气体产品,打造特种气体大平台。

3.入股科华,进入IC最关键材料之一的光刻胶

公司入股北京科华,持有科华31.39%的股份,并将在原有产能455吨基础上,新增产能1720吨。科华是国内第一个进入KrF(248nm)光刻胶领域的厂商,产品已在中芯国际试用了一年半,目前已经通过认证, 实现小批量采购。我国半导体和平板显示用光刻胶市场空间将近15亿元, 每年增速15%以上,目前基本被国外厂商垄断。光刻胶技术门槛极高,是影响集成电路性能的关键材料,下游客户粘性极高。随着国产化率的提升, 科华是国内光刻胶领域的龙头企业,具有先发优势,光刻胶有望爆发。

4.投资建议:

公司已逐步实现MO 源、特气、光刻胶三大业务的布局,明年特气和光刻胶有望贡献业绩。未来公司将围绕IC 产业,打造成为电子材料综合平台。预计公司15-17年EPS 为:0.32、0.46、0.61元,对应PE 为113X、79X、59X,给予“强烈推荐”评级。

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