光电工程师社区
标题:
YbF3、YF3的电子枪蒸镀问题
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作者:
ferry
时间:
2016-4-5 10:01
标题:
YbF3、YF3的电子枪蒸镀问题
如题,
用电子枪蒸发YbF3、YF3时,膜料用过多次后,变的粘稠状(熔融态下),如果用小束班,易挖坑。导致膜层厚度炉次变化(只用晶控)
如果把磨了表面层去掉,1是不好去除,2是太浪费;
有几个疑问:1
1电子枪打完膜料,表面层发黑,有无影响?
2每次镀完新加料后,对膜层质量有无影响?
3挖坑问题如何有效解决?
请老手帮解答下,谢谢!
作者:
ferry
时间:
2016-5-10 14:36
xiaohuilee 发表于 2016-4-26 20:56
表面发黑我们都选择给去除掉 有些地方很难去除 试验证明对曲线影响不算太大 但是要是保证每炉的重复性 还 ...
表面发黑,除了坩埚污染?是不是还有因膜料失氟导致,因为除了表面变暗,发黑,还有膜料变的易挖坑。用过多次后,去除表面很难办到,都熔化一起了。有没有更好方式呢?
还有,氟化物预熔不好,对表面光洁度影响多大?
谢!
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