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标题: 长周期光纤光栅的制作方法介绍-南京聚科光电 [打印本页]

作者: 南京聚科光电 时间: 2016-9-30 13:13
标题: 长周期光纤光栅的制作方法介绍-南京聚科光电
长周期光纤光栅的制作方法介绍-南京聚科光电
a）掩膜法掩膜法是目前制做长周期光纤光栅最常用的一种方法。实验中采用的光纤为光敏光纤，PC为偏振控制器，AM为振幅掩膜，激光器照射数min后，可制成周期 60μm～1mm范围内变化的光栅，这种方法对紫外光的相干性没有要求。
b）逐点写人法此方法是利用精密机构控制光纤运动位移，每隔一个周期曝光一次，通过控制光纤移动速度可写入任意周期的光栅。这种方法在原理上具有最大的灵活性，对光栅的耦合截面可以任意进行设计制作。原则上，利用此方法可以制作出任意长度的光栅，也可以制作出极短的高反射率光纤光栅，但是写人光束必须聚焦到很密集的一点，因此这一技术主要适用于长周期光栅的写入。它的缺点是需要复杂的聚焦光学系统和精确的位移移动技术。由于各种精密移动平台的研制，这种长周期光纤光栅写入方法正在越来越多的被采用。

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