我们镀ITO时,发现膜面有点状污染,显微镜看上去象烧焦的一样.玻璃基板上没有类似污染,做过只镀SIO2和ITO实验,仍存在.可打开镀膜腔体并无异常.为何抛光玻璃会有这种情况呢?那位前辈可以指导一下,具体的情况可以给我留言,谢谢!
功率提升了,但是靶材表面的潔淨度,平坦度會造成電漿穩定與否.看看在點然電漿時是否有Arcing產生
因为一直怀疑是nodule较多,我们的靶材保养时都打磨,应该较清洁,也比较平坦.
如果arcing的话,应该不能溅射.
还有玻璃基板上有很多的亮白点,不知道是什么原因.显微镜看上去有很亮,怀疑膜厚较厚.准备用膜厚机测看看大概高多少?
谢谢vacuum0714.期待更多帮助
谢谢cjjiang的帮助.我们SI靶不预溅射.这种污染是随着一次保养之后越来越多,应该不是这个问题.
至于电压过高电荷积累过多造成打弧,我做了降低电压的测试,好象也存在的,
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