光电工程师社区
标题: 坛子里有没有作磁控溅射镀膜的 [打印本页]
作者: 风之炫彩 时间: 2005-3-19 06:41
标题: 坛子里有没有作磁控溅射镀膜的
好奇怪呀，在坛子里转了这么久，听大家说的，感觉好像作磁控溅射得不多，为什么呀，有经验的大家一块聊聊呀！偶是新手，很像多多听取前辈的见解哦！
作者: wazxq 时间: 2005-3-20 00:45
磁控溅射在光学镀膜上用的少
像Veeco's SPECTOR® Optical Coating System 。非常好的设备
作者: hacker 时间: 2005-3-20 21:14
以下是引用wazxq在2005-3-19 16:45:45的发言：
磁控溅射在光学镀膜上用的少
像Veeco's SPECTOR® Optical Coating System 。非常好的设备
Veeco's SPECTOR® Optical Coating System 属于离子束溅射，不属于磁控溅射。
作者: faverkiss 时间: 2005-3-21 20:22
唉，我做磁控溅射的
不过我现在做透明导电膜，仅仅跟光学粘点边
以前做金属膜几乎没什么关系
作者: 风之炫彩 时间: 2005-3-22 20:40
可是欧现在的课题是用磁控溅射镀光学薄膜,为什么磁控溅射在光学镀膜上用的少,是应用技术的问题还是什么么/
作者: nittohai 时间: 2005-3-23 18:26
可能是磁控溅射薄膜沉积速度比较慢，产能不大。不过其薄膜质量确实非常的好。我认为随着磁控溅射技术的发展，它在光学镀膜上会用的更多。
作者: whpe2000 时间: 2005-3-23 20:50
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作者: 风之炫彩 时间: 2005-3-24 00:04
那大家一起讨论讨论呀，我可是向以后找工作就靠他吃饭了，那为什么像坛子里的人好像大多是做cvd的，为什么呢，那磁控溅射在实际的生产中用得多么
作者: whpe2000 时间: 2005-3-24 01:26
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作者: coatingli 时间: 2005-3-24 05:09
SHINCRON的RAS设备就是磁控溅射原理
作者: 风之炫彩 时间: 2005-3-24 18:56
可是我们用的是国产的磁控溅射设备，不知道楼上的SHINCRON的RAS设备是什么样子，
不同的磁控溅射设备，操作什么的，会有很大区别么
作者: wsossos 时间: 2005-3-24 19:13
我在北科大是做磁控溅射的，主要是做磁性薄膜方面的，用的设备还是中科议的，比较老式的磁控溅射设备，在清华借用过美国的一套进口设备，很爽的，当时为了赶试验没注意设备名称
作者: faverkiss 时间: 2005-3-24 20:10
以下是引用whpe2000在2005-3-23 17:26:02的发言：
实际上目前应用于大规模镀膜生产的设备以磁控溅射设备居多
特别是在幕墙玻璃和其它高端应用(高质量的金属反光镜、ITO等).
还有一点就是目前磁控溅射中使用的TWINMAG技术已经突破了
其速率低的瓶颈.其速率已经和蒸发不相上下（个别金属除外）.
关于twinmag技术，我很感兴趣，翻译成孪生靶溅射技术当否，不知能不能提供一些相应资料
我现在从事TCO薄膜相关研究，目前的设备为倾斜对向直流磁控溅射
以前做过磁性薄膜（巨磁阻相关），同行不吝赐教
我的mail： faverkissjp@yahoo.co.jp
作者: whpe2000 时间: 2005-3-24 22:32
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作者: faverkiss 时间: 2005-3-25 17:42
哦！明白
我自己到网上查公开的资料先，呵呵
谢谢提供信息
作者: heyanch 时间: 2005-3-25 18:55
我也是做磁控溅射的.
以后多多交流.
作者: 风之炫彩 时间: 2005-3-28 23:24
我们用的设备是沈阳聚智的，没有用过楼上说的国外的，真想见识
作者: faverkiss 时间: 2005-3-29 00:15
介绍一下是做啥的啊
作者: 风之炫彩 时间: 2005-3-29 00:21
我现在主要是做高反射膜，用二氧化钛和二氧化硅交替镀，其实老板并不是做光学薄膜的，所以一切都要自己从头开始做起，不过我们并不是将其应用于光学上，而是想做一套传感系统
作者: faverkiss 时间: 2005-3-29 17:38
高反啊，我还想做点增透膜的东东呢！主要是做TCO膜与基板的过渡层，看看有没有增透效果，我也是刚做，都不知道从何着手，烦
作者: deveitu 时间: 2005-3-29 20:47
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作者: sxddz 时间: 2005-3-29 23:23
我用磁控溅射的方法做过增透膜效果很好
作者: faverkiss 时间: 2005-3-30 16:39
我担心的是界面的问题，另外问一句，膜结构设计用的是什么软件啊？？
偶现在是matlab自己拿公式套，呵呵
SiO膜做过渡层，界面O扩散严重？（证明中）影响主要薄膜性能
作者: 飞天狐狸 时间: 2005-5-4 18:51
我们公司新进的磁控镀膜机，主要镀金属膜，可以交流一下啊，QQ：6459720
作者: leehoowi 时间: 2005-5-10 18:09
low－e玻璃用磁控溅射技术将是夺取市场的重大举措吧。
作者: xiaoqidiao 时间: 2005-8-9 09:43
大哥，我也是作这个工艺的，我们用的是德国AFC公司的TC2540/Z5H/17-25的镀膜设备，主要的也是金属膜，也就是LOW－E用在大面积幕墙玻璃上面
14楼的大哥，你有薄膜技术与薄膜材料方面的电子书吗，可不可以给我发一份，我的MAIL: du_xiong@126.com
因为我才入这行，以前是学光电子的，对这方面想找一份系统的书读读
作者: nittohai 时间: 2005-8-10 01:58
我现在就是用磁控溅射做各种光学膜，象uv，colorwheel，gff等难度较大的膜系，现在技术已相当成熟。有兴趣者可以我聊聊。
作者: wangxuemin75_20 时间: 2005-8-16 00:50
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作者: xxyz 时间: 2005-8-16 05:21
27楼的弟兄，我曾经用过磁控溅射设备，不过很老的设备，我们做X射线薄膜，请问你用的是那个公司的设备，真空室直径是多少？UV这样的薄膜需要多少时间完成？
作者: nittohai 时间: 2005-8-16 20:28
我们自己做的机器，真空室直径1500mm，uv薄膜共41层，需要六个小时完成。机器设备老不要紧，关键是运行状态要稳定。
作者: deveitu 时间: 2005-8-16 23:14
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作者: wangcaiming 时间: 2005-8-26 18:04
我想问下在国内有没有生产磁控溅射机的产家呀，请各位前辈指教
作者: 长风破浪 时间: 2005-11-2 07:53
现在的直流脉冲也不错啊
作者: 天涯孤星 时间: 2005-11-9 02:47
各位老大，有谁可以给塑料薄膜镀NI
作者: 长风破浪 时间: 2005-11-9 21:08
可以
卷绕的磁控就可以
我是磁控的，不过是玻璃
我去看过有一家可以
作者: 天涯孤星 时间: 2005-11-10 02:14
[B]以下是引用[I]长风破浪[/I]在2005-11-9 13:08:00的发言：[/B][BR]可以
卷绕的磁控就可以
我是磁控的，不过是玻璃
我去看过有一家可以
作者: 天涯孤星 时间: 2005-11-10 02:14
[B]以下是引用[I]长风破浪[/I]在2005-11-9 13:08:00的发言：[/B][BR]可以
卷绕的磁控就可以
我是磁控的，不过是玻璃
我去看过有一家可以
作者: hncdlf 时间: 2006-1-5 00:14
俺就是专门给塑料薄膜镀镍的，用的是磁控溅射。
作者: huweiqian 时间: 2006-1-5 21:21
hncdlf,请问你采用什么技术？是电子枪还是磁控溅射，还是感应蒸发？
作者: 我来了 时间: 2006-2-5 22:41
大家可以和我联系吗？我需要大家帮忙 zxz0579@163.com买了机组不知道怎么用
作者: 宇轩 时间: 2006-2-6 18:59
对于磁控溅射在以后的光学薄膜的应用一定会越来越广泛，因为有优越于普通蒸发镀膜机的许多地方， 我想它不但膜层的质量好，而且成膜后的光洁度也要比普通蒸发镀膜机高一个层次
作者: wazxq 时间: 2006-2-6 23:24
这个说法没错，但是你说的不是简单的磁控溅射，国内磁控溅射都是很简单的，老一辈的可能知道深圳一家作磁控溅射的吧，那样的镀膜机才10w RMB，怎么做高端光学。用于光学的必须复杂的多
对了，如果再有人写薄膜书，我觉得像RAS应该重新归为一类才行。
作者: zmst 时间: 2006-2-7 00:29
早期国内的溅射机都是以装饰为主,其实原理都是一样的,RAS属于精密磁控溅射机,它所提出的概念对于溅射在光学上的应用是里程碑式的
作者: wazxq 时间: 2006-2-7 00:48
RAS增加了辅助镀膜啊，
它所提出的概念？？其实这个应该是美国人90年做出来的，当然我要是没有搞错的话，呵呵
作者: zmst 时间: 2006-2-7 01:15
请问美国有类似的设备吗?
作者: wazxq 时间: 2006-2-7 02:25
美国的公司是家镀膜公司，不做设备买，自产自用
作者: sputter 时间: 2006-2-9 22:48
我是做磁控溅射的,主要是做金属膜,偶尔也做介质膜
作者: valle 时间: 2006-2-16 00:12
huweiqian
ＶＯＮ ＡＲＤＥＮＮＥ在國內有哪些廠家使用呀?
作者: valle 时间: 2006-2-16 00:18
美國的除了VEECO外還有什么呀?
作者: nittohai 时间: 2006-2-16 17:09
目前生产磁控溅射镀膜机做光学薄膜的厂家有日本的新科龙，美国的Veeco和德国的莱宝等几个厂家，我现在用的机器是自己研制的，和德国莱宝一款溅射设备相似。由于是自己研制的，所以对机器的构造，靶的工作模式等有深刻的理解和认识。为了改进工艺，我们曾以买机器为由，同以上几家公司多次交流，了解他们的设备及工艺。现在我们公司的镀膜机器在沉积速率、产能、稳定性和产品难度等方面综合来看，与他们的机器相比不分上下，只是各自的优缺点不同。
作者: huweiqian 时间: 2006-2-16 21:02
回４９楼：VON ARDENNE公司目前在国内的设备主要用于大面积玻璃镀膜上面，如南玻等，现在在薄膜太阳能电池方面也在开拓市场（由于在欧美日拿到了很多定单）．另该公司给ＺＥＩＳＳ公司提供过一个小的生产设备（相对大面积），用于做Ａg反射镜，主要的膜层结构为Ｇ＋SiOxNy+Ag+ZAO+SiO2+TiO2+SiO2+TiO2.对于磁控溅射做光学膜，现在知名度最高的ＳＨＩＮＣＲＯＮ的ＲＡＳ系列，还有一家是英国的Applied Multilayer公司．采用ＣＦＭ技术（原来用于Hard coating）．
作者: huweiqian 时间: 2006-2-16 21:04
５１楼的是不是中南集团底下的一个公司，precisonoptic还是哪家啊？
作者: huweiqian 时间: 2006-2-16 21:08
宇轩，您好．
你用过磁控溅射做光学膜吗？请问你是哪的？我现在有个朋友担心Shincron的ＲＡＳ设备做出来的光洁度不好，想请教一下．欢迎联系，０２１－６４８５１２７２－１４５或huweiqian2006@163.com
作者: wra 时间: 2006-2-17 05:34
Shincron的Ras设备做出来的东西光洁度看起来好像还可以哦。
作者: huweiqian 时间: 2006-2-17 19:02
请问楼上知不知道用ＲＡＳ做ＩＲ ＣＵＴ的光洁度能不能达到２０um的标准？
作者: wra 时间: 2006-2-18 07:47
对于光洁度具体能达到多少到是没有注意过，也没有做过专门的检测。不过用RAS镀出来的UV-IR和Colorwheel等在强光灯下看起来膜层都是非常清澈的，个人感觉上应该是可以达到２０um的标准的，到底是不是我得再查查。
作者: gj19820913 时间: 2006-2-18 08:42
我也是做磁控溅射的,虽然我参加工作没多久,但是我觉得他虽然有一定的局限性,比如非平面镀膜就很少用到.我们用的是OCS也就是Optical Coating System.我觉得这样的设备很好,我们做的产品就是color wheel以及WDM\DWDM.
作者: huweiqian 时间: 2006-2-25 00:38
多谢５７楼，您现在有没有在用ＲＡＳ做ＩＲ ＣＵ呢？现在有没有确认是否可以达到２０um的要求？谢谢．
作者: 楼阁情丝雨 时间: 2006-3-2 05:53
有兴趣可以聊聊,我公司就是使用磁控溅射的设备,日本ulvac和美国afc的设备.
作者: huweiqian 时间: 2006-3-3 20:43
楼上做的是大面积镀膜吧？
作者: 楼阁情丝雨 时间: 2006-3-4 05:47
我们低欧姆品做的多,3-10ohm,高的都不想做了
作者: wangyonglin1980 时间: 2006-3-4 22:40
我也是做透明导电薄膜的！不过用的直流和脉冲复合磁控溅射镀膜设备，而且用了离子源辅助沉积手段，希望大家可以多多交流，共同进步！QQ:34130369
EMAIL:wangyonglin1980@126.com
作者: huweiqian 时间: 2006-3-7 19:50
确认了ＲＡＳ镀膜机可以做出光洁度非常好的薄膜．
作者: 飞天狐狸 时间: 2006-3-8 06:46
[B]以下是引用[I]nittohai[/I]在2005-3-23 10:26:00的发言：[/B][BR]可能是磁控溅射薄膜沉积速度比较慢，产能不大。不过其薄膜质量确实非常的好。我认为随着磁控溅射技术的发展，它在光学镀膜上会用的更多。
磁控溅射能很容易实现批量生产的，我想会有很好的发展。
作者: huweiqian 时间: 2006-3-8 20:56
而且镀膜速度也有了很大的提高.
作者: hdlhj2218 时间: 2006-6-10 23:43
我想问下你说所的磁控溅射镀膜是不是物理真空镀膜,我是物理真空镀膜的新手,现在什么都不知道,但是在过一个多月厂里的机器就来了,到时候他们就叫我自己搞,想麻烦一下有经验的老师傅能不能给我发一份PVD具体的操作原理,我会感激不尽的!!!
作者: williamfengxw 时间: 2006-6-25 23:32
有的，而且是在LCD-ITO上很成功的厂家，你真的需要吗？可以联系我
作者: YAOCS633 时间: 2006-6-26 00:32
第10楼的朋友，你是用SHINCRON的RAS磁控溅射镀膜设备吗？？？
请回复YAOCS633@126.com
作者: huweiqian 时间: 2006-6-26 20:49
ＳＨＩＮＣＲＯＮ公司开发的ＲＡＳ系统主要是针对大批量的生产，投资可能比电子枪的高一点，但是效率也比电子枪的高很多。如果你是大批量生产的话，应该还是比较合适的．但其设备对于研发型的单位来说，可能有点浪费；并且做非常的大的片子（大于直径300mm），会比较难处理；切应力相对较大。
作者: huweiqian 时间: 2006-6-26 20:51
而APPLIED MULTILAYER公司的CFM设备则比较适合于小批量、多品种的应用。
作者: YAOCS633 时间: 2006-8-26 20:44
Dear Mr WRA:
進來了,也不跟老哥門打聲招呼,
下次來吳江KEY你.
哈哈哈哈哈
作者: nimbol 时间: 2007-1-10 06:57
我在南京14所做这个工艺！呵呵！有需要帮助的话和我联系！qq 52453090
作者: h030112506 时间: 2007-1-19 17:55
我在做磁共溅射靶的设计
作者: punl 时间: 2007-3-9 05:30
我们公司有两台新科隆的，一台就是RAS系列的，做的产品光洁度不错，应该可以达到20um.
作者: zhbdun88 时间: 2007-3-23 18:30
光学镀膜设备
种类：眼睛架磁控溅射镀膜机/眼睛片/光学元件镀膜机.全自动超声波清洗机/加硬机
应用范围
主要用于镀制增透膜.带通膜和截止膜等各种膜系,能够实现100层膜的超大型膜系镀膜,也能满足在树脂镜片上镀制各种颜色的增透膜以及在太阳镜片上镀制红.黄.蓝.绿等颜色的反光膜,还适用于装饰品的金属镀膜.
结构特点
1.配置电子束蒸发及电阻蒸发系统.
2.配置大坩埚电子枪(韩国180度/德国270度),整个蒸发过程中膜料表面平整,蒸发分布均匀.
3.配置膜厚控制仪(MDC-360/IC-5)可实现成膜速度和镀膜过程的自动控制.
4.配置大功率霍尔离子源,膜厚质量好.
5.总体结构设计合理,更符合工艺的要求,中英文版触摸屏和真空系统PLC自动控制,操作简单.方便.
销售负责人:张先生
H.P: 13912820116
E-MAIL（MSN）: ZH_XINYUAN68@163.COM
公司名称: 镇江三维真空光学（韩资）
作者: roi211 时间: 2007-3-24 04:31
日本RAS是2仓，最NB的现在好象有3仓了，镀制1000NM厚大概需要1小时，镀AR膜到是不太快，你想知道什么我可能告诉你一些，我也不太懂，只是我能接触到RAS设备，只是喷铝的防护板要发往日本处理，脏点问题不知道怎么解决
作者: isfm 时间: 2007-4-13 01:10
请问各位，磁控溅射镀膜有没有用于 激光薄膜，qq 156491140
作者: 风之炫彩 时间: 2007-4-18 08:14
很久没有上这个论坛了，居然还能看到自己发的帖子。我们公司现在用的是ULVAC的设备。
作者: hydralisk-1 时间: 2007-4-18 23:37
楼上的，ＵＬＶＡＣ也有镀膜设备在生产吗？
我是用ＲＡＳ的，只知道ＳＨＩＮＣＲＯＮ的泵大多是ＵＬＶＡＣ的
ＲＡＳ要做到２０um的水平还是有点困难的，对维护的水平要求非常高．同时对基板处理要求很高，普通光学玻璃经常会出现大批量的表面问题．
作者: soar 时间: 2007-5-15 03:28
谢谢！辛苦了
磁控溅射镀膜由于精度不如离子镀膜，所以光学上很少用
作者: huweiqian 时间: 2007-5-15 04:53
现在ＲＡＳ用在光学镀膜上不是已经很多了嘛．我想ＵＬＶＡＣ的磁控溅射没有用在高精度光学镀膜上的，而显示，半导体领域用的应该很多．
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