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标题: 间接冷却磁控溅射靶 [打印本页]

作者: nanovac 时间: 2005-5-21 14:58
标题: 间接冷却磁控溅射靶
上海纳微公司间接冷却磁控溅射靶采用国外先进技术设计，国内精心制造。可广泛应用于光学，半导体，各种传感器，平面显示器，装饰，耐磨损镀膜工艺。磁控靶包括圆柱靶和直线靶。圆柱靶从2.5厘米到20厘米。直线靶可长达150厘米。并可按用户特殊要求定做溅射靶。除标准靶外，还可提供超高真空（全金属陶瓷）靶，以及多靶溅射平台。主要技术指标和特点： 1. 不用改装即可适应直流，射频，中频，和脉冲溅射镀膜。 2. 可适用于不同厚度的靶材。 3. 可溅射磁性和陶瓷靶材。 4. 溅射速率高。不均匀性<5%。 5. 间接冷却效率高。可替代各国进口磁控溅射靶上海纳微真空技术有限公司电话： 021-27977643，（宓小姐）传真 021-56333068 电子信箱：nanovac@gmail.com

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