光电工程师社区

标题: 怀疑？AL2O3的折射率到底是多少？？？--１.６２～１.６４ [打印本页]

作者: 4366544 时间: 2005-6-30 18:04
标题: 怀疑？AL2O3的折射率到底是多少？？？--１.６２～１.６４
AL2O3的折射率到底是多少？？？
我前几天做了几机单层的ＡＬ２Ｏ３之后竟然发现它的折射率是１.７８！！！

想问一下你们有没有过这样的异样情况？？？？？？？？？

作者: flyinlove79111 时间: 2005-6-30 18:28
Al2O3的折射率是不怎么稳定，所以要尽量稳定各种控制参数，但一般就是１.６＊，如果到１.７８，你就去测一下吸收吧。估计是没有充氧。

作者: 4366544 时间: 2005-6-30 18:44
wo cong de

de a

作者: 4366544 时间: 2005-6-30 18:45
我充的1.2*10的负2帕啊!

作者: wazxq 时间: 2005-6-30 19:03
应该达不到1.7，要不然大家就要学习你的成膜方法了，我的才1.66还是APS

作者: zwl 时间: 2005-6-30 19:16
1.599-----1.662
400-----800nm

作者: zz 时间: 2005-6-30 22:54
恭喜你,又发现了一种新膜料.
你的计算方法没问题吗?

作者: chz321 时间: 2005-6-30 23:09
怎么可能会达到那么高呢,

作者: yin99 时间: 2005-6-30 23:50
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作者: 4366544 时间: 2005-7-1 00:09
ni deng yi xia a !我去查一下马上来!

作者: 4366544 时间: 2005-7-1 00:24
对不起了啊!我刚才才知道打错了!不是1.78但是绝对比1.66高,好像是1.68而且一连好几机都这样!!!
对不起了啊!!对不起了啊!

具体信息是:
反射最高点是550NM处8.7

作者: zz 时间: 2005-7-1 15:48
没给出基片的材料如何算啊????????????????????????

作者: guangang 时间: 2005-7-2 01:59
還有蒸發速率，速率越高，折射率越高，還有本底真空度；
鍍膜的三大要素：基底溫度，蒸發速率，真空度

作者: 4366544 时间: 2005-7-8 22:31
K9料,蒸发书率是160左右,基片温度在210℃左右!再次～～～ＩＡＭ　ＳＯＲＲＹ

作者: zz 时间: 2005-7-9 00:20
1.67 @550nm .................
////////////////////

作者: 4366544 时间: 2005-7-9 17:07
会不会是温度的影响?不知道我这样认为对不对啊!如果是那温度最好是多少

作者: jipeng 时间: 2005-8-6 06:13
怎么可能达到1.78呢? Al2O3只能达到1.65

作者: jipeng 时间: 2005-8-6 06:50
Al2O3是受温度和真空度的影响高温高真空就能得到n=1.65的折射率

作者: wcy820823 时间: 2012-6-7 22:34
分享AL2O3材料数据

250.0 1.7331 0.0
275.0 1.7163 0.0
300.0 1.7042 0.0
325.0 1.6951 0.0
350.0 1.6881 0.0
375.0 1.6825 0.0
400.0 1.678 0.0
425.0 1.6743 0.0
450.0 1.6713 0.0
475.0 1.6687 0.0
500.0 1.6665 0.0
525.0 1.6646 0.0
550.0 1.6629 0.0
575.0 1.6614 0.0
600.0 1.6601 0.0
625.0 1.659 0.0
650.0 1.6579 0.0
675.0 1.657 0.0
700.0 1.6561 0.0
725.0 1.6553 0.0
750.0 1.6546 0.0
775.0 1.6539 0.0
800.0 1.6532 0.0
825.0 1.6526 0.0
850.0 1.652 0.0
875.0 1.6515 0.0
900.0 1.6509 0.0

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