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标题: 版主和高手帮帮诊断一下SiO2的蒸镀情况 [打印本页]

作者: yakochen 时间: 2005-7-14 03:07
标题: 版主和高手帮帮诊断一下SiO2的蒸镀情况
如何稳定SiO2的蒸发速率，有无用块状材料的兄弟，给点经验吧。
我遇到一个情况，用块状料材料反射电子打在坩埚边缘，导致束流不能加得太大，
如何解决哦？请问蒸SiO2的电子枪高压一般为多少？俺的Email：yako_chen@163.com

作者: attacker99 时间: 2005-7-14 05:11
一般为8KV
电子枪扫描到边缘，考虑调节X。Y方向的偏移量啊，将光斑缩小一点。
调整预熔参数，各个机器不同，应做实验，达到最佳

作者: feiying 时间: 2005-7-14 06:21
SiO2束流不用调至很大，蒸镀速率在较低的束流下就已经够用了！

作者: zz 时间: 2005-7-14 16:07
二次电子肯定有的,做个屏蔽板将其导走就是.

作者: wazxq 时间: 2005-7-15 01:02
束流能到多少，哪的电子枪~~~~~~~~~~~~~~

作者: 经济学的故事 时间: 2005-7-18 01:13
2楼的朋友说得对，另补充点sio2光斑初时打在坩埚不易聚焦，致使SHUTTER OPEN 后RATE没上升而power猛加，可以延长下蒸镀参数shutter delay time。

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