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标题: DWDM(噴藥是否會造成吸收) [打印本页]

作者: aoci 时间: 2005-8-31 01:12
标题: DWDM(噴藥是否會造成吸收)
請問各位先進，最近小弟在鍍DWDM時，發生吸收問題，懷疑是ta2o5藥純度不足造成，(所使用的ta2o5純度為99.995％)，且試用多家廠商的藥始終無法改善，請教大家鍍DWDM(100G)，所使用ta2o5純度多高，以及我應該要注意那些問題???????若藥本身會噴藥是否會造成吸收????????(將預融電流加大是否可解決噴藥問題)。感恩

作者: snebur 时间: 2005-8-31 04:57
將預融電流加大是可解決噴藥問題！純度為99.995％，纯度已经足够了！你的所谓吸收究竟是什么现象？描述一下？如何判断的吸收？？？？

作者: aoci 时间: 2005-8-31 18:07
(1)隨著層數越來越多，光量值越來越低，與理想設計值差異甚多，鍍完後量測分光，峰值為-0.6~-0.7db(未鍍ar)。
(2)鍍完第一個腔，就有明顯差異，第二個腔以後差異越來越大。
(3)腔裡面的第一個stack鍍膜都跟設計值差異不大，但第二個stack就有很明顯的差異

作者: hacker 时间: 2005-8-31 20:53
這種情況我遇見過，一般第一個腔沒問題，第二個腔後半腔就會出現差異（光信號偽拐點），以至到後面信號越來越亂，鍍出來之產品肯定Fail。鑒於技術原因，在這裡我只能給您一些提示，希望您能得到啟發。
1.控制方法上要靈活點，采取點小技巧。（如關鍵與敏感層要采取其它控制方法等）
2.晶振片使用與更換時要注意細節。（如鍍膜前和過程中更換要適宜等）
3.單色儀信號方面（如光強、狹縫大小等）
4.Substrate方面(基片之影響要比材料影響大）
我以前做100G最大面積做到Φ65mm，200G與CWDM每個Run做到Φ80mm以上，現在雖然不做了，靜心讀了一些資料後，收獲頗大，如果再做的話可以做得更好。希望現在仍然在做的可以做得更好。
另，以上為個人建議，僅供參考。

作者: zz 时间: 2005-9-1 00:41
不错不错
吸收确实是个问题.

作者: 王李 时间: 2005-9-1 04:38
充氧气5CCM，让其氧化充分。VEECO镀的晶体RF溅射，一般不出点子。你的若是电子枪的TA2O5的扫描参数要设好

作者: wazxq 时间: 2005-9-1 20:19
如果这些问题还没搞清楚，建议赶快放弃作100G，这都是最简单的问题了。四楼说的其中一个可以完全解决你的问题。我们2002年解决这些问题的。100G的问题多的很，那些才是头痛的

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