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标题: 这个膜是不是很难做？？？？ [打印本页]

作者: captainH 时间: 2005-9-20 23:19
标题: 这个膜是不是很难做？？？？
双面镀膜
S1：R≤0.2%@1064nm；T＞80%@650nm
45度入射
S2：R≤0.5%@1064nm；T＞80%@650nm；R＞98%@532nm
45度入射

作者: zz 时间: 2005-9-21 15:54
应该不会太难了
优化一下即可

作者: captainH 时间: 2005-9-21 16:04
我问了三个高手，都说很难做。
莫非ZZ兄弟乃神人也？？？

作者: zz 时间: 2005-9-21 16:24
算是可以,做起来只能说看工艺水平了.

作者: wish 时间: 2005-9-22 20:39
恩，不是很难做，修正一下次峰

[此贴子已经被作者于2005-9-22 12:42:37编辑过]

作者: yzhuang 时间: 2005-10-7 21:19

s1面还可以，S2面应该难吧，增透膜做到R＜0.5%当然没问题，但还要532NM高反的情况做1064NMR＜0.5%我想很难，设计上当然没问题，可做起来很难哦

作者: chz321 时间: 2005-10-7 22:45

是啊，主要是能不能做的出来，

设计出来并不一定能镀的出来啊

作者: dw19811111 时间: 2005-10-10 23:19

这个基片和膜料都是什么啊那位大大牛能告诉我一下么还有就是俺刚毕业用TFC怎么修改次峰啊

作者: guizi315 时间: 2005-10-25 21:13
是要你做还是要你设计呀，基底和膜料选了吗？你哪个学校的？

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