光电工程师社区
标题: 镀膜基片变形解决办法 [打印本页]
作者: sofilm 时间: 2005-10-24 02:47
标题: 镀膜基片变形解决办法
本人在多家公司用莱宝机（Leybold APS1104）镀单纤双向或三向滤光片时，0.3mm厚的基片镀完后都会变形，有人说是因为Leybold APS1104的离子源功率太强劲造成。先使用厚玻璃镀完后再磨薄，成本又太高。请问各位在碰到这个问题时是采取什么措施解决的？
作者: snebur 时间: 2005-10-24 19:58
一定要用离子源辅助吗？
不一定光是离子源的事！因为基板太薄，膜层上去后的应力造成的变形是主要原因！
作者: snebur 时间: 2005-10-24 20:01
请改用其他材料可以做到！尝试一下吧！只要您使用离子源就不可避免变形！实在离不开离子源就考虑降低其功率！
作者: ic5 时间: 2005-10-24 20:09
降低离子源功率可以适当的降低膜层的应力，但功率的降低范围是很小的，必须还要保证膜层的质量。
（最好的方法还是叫客户改技术指标吧，0.3mm太薄了啊，要不就放宽面形的要求------这个是玩笑了）
作者: wazxq 时间: 2005-10-24 20:45
镀那些东西APS源的功率已经很不够用了，可别给人家出坏主意降低离子源功率，呵呵。厚玻璃镀完后再磨薄的方法只会使变形更加严重，楼主在那里高就，降应力那就从应力的来源想想吧
[此贴子已经被作者于2005-10-24 12:53:47编辑过]
作者: yh15430 时间: 2005-10-25 18:49
wazxyq说的对，应从撤除应力方面着手！
作者: wish 时间: 2005-10-26 19:11
变形程度有多大？几个波长？
你的基片厚度是比较小，但是宽度呢？一般基片宽度（对角线的最大尺度）和厚度要超过1：10。如果基片尺寸不能改变，可以考虑基片背面补偿法，两面镀同样的膜，这样对镀膜机的稳定性要求高，要保证两次面形变化一样大，这样才能补偿回来。
作者: hacker 时间: 2005-10-27 05:47
想上传一篇关于应力的论文﹐但超过限制﹐需要的就留下邮箱吧….. {错误：文件大小超过了限制 500KB![重新上传]}
作者: ic5 时间: 2005-10-27 16:27
谢谢hacker大哥，我先来学习学习！
ic5@oecr.com
作者: wazxq 时间: 2005-10-28 06:28
用winrar分解成两个就好了
wazxq2002@163.com
作者: flashzhang 时间: 2005-11-9 19:46
如果基片不能改变，只能在膜系设计上动脑筋了
修改膜系！
作者: ruoguo 时间: 2005-11-10 19:00
ruoguo155@sohu.com谢啦
作者: fuyong 时间: 2005-11-10 20:06
麻烦发给我一分关于应力的文章
fy@lida-oe.com
作者: 张光勇 时间: 2005-11-11 04:58
也给我发一份吧！谢谢！zgy123995@sohu.com
作者: dw19811111 时间: 2005-11-11 16:38
也给我 发一份 谢谢
dw19811111@163.com
作者: martin1980 时间: 2005-11-12 16:55
thank you ,martin34771728@163.com
作者: laobansos 时间: 2005-11-13 21:05
谢了！！fanrenboy@sohu.com
作者: sofa88888 时间: 2005-11-14 18:00
challenge2002@eyou.com
作者: light_0405 时间: 2005-11-17 18:35
双面镀膜，或者选择合适膜料使两种膜料之间应力相抵消或者加缓冲层（与原先薄膜应力相反的薄膜）
作者: xwse1 时间: 2005-11-21 03:44
谢谢hacker大哥,也给我发一份关于应力的文章.
xwse1@yahoo.com.cn
作者: violet 时间: 2005-11-22 04:51
我也要一份，hitwxl@yahoo.com谢谢！
作者: fulong927 时间: 2005-11-23 21:52
应力的文章能给我一份吗？多谢啦！imute@sohu.com
作者: after 时间: 2005-11-25 04:39
原理都定了，还要这些资料有什么用啊？
作者: eagle1 时间: 2005-11-27 02:16
也请发给我一篇看看.
huangyu598@sohu.com.谢谢！
作者: leidiygs 时间: 2005-12-1 22:48
可考虑镀膜过程中将应力分散
作者: zweih 时间: 2005-12-11 18:29
作者: light_0405 时间: 2005-12-13 00:11
先谢谢了，shenyam1980@163.com
作者: zzzz 时间: 2005-12-14 18:37
我也想看看.谢了
ZL4846@YAHOO.COM.CN
作者: xpizwj 时间: 2006-4-4 05:01
给我发一份应力的文章好吗?
非常感谢!!!
xpizwj@163.com
作者: fawang 时间: 2006-4-5 08:18
hacker大虾,能否给我发一份.
fawang983@sohu.com
非常感谢!
作者: xfhu529 时间: 2006-4-6 06:07
谢谢，能给我一份吗？
xfhu529@163.com
作者: fuyong 时间: 2006-4-14 17:57
能给我发一份吗
ta98@126.com" target="_blank" >ota98@126.com
谢谢你
作者: huweiqian 时间: 2006-4-17 19:58
一种方案是进行两面同时镀膜；另外一种就是降低辅助的离子能量，并增加其能量密度．两种方案都可以降低应力．不过两种方案都是采用溅射工艺来实现的．
作者: violet 时间: 2006-4-18 05:47
应力的文章给我一份。
hitwxl@yahoo.com
谢谢！
作者: lwh 时间: 2006-4-18 06:49
我也要一份資料
lwh23kimo@yahoo.com.tw
作者: earlcxf 时间: 2006-4-18 19:18
能不能给我也发一份啊，谢谢！
earlcxf@126.com
作者: 流明 时间: 2006-4-18 23:28
给我发一份吧！ redleaf143@126.com 谢谢！
作者: gxd_002 时间: 2006-4-21 22:33
gxd6368@163.com
给我一份吧，谢谢
作者: lxf0103 时间: 2006-5-13 22:47
标题: 回复:hacker
您好!~~~ 能不能,把您那篇关于应力的文章发给我学习一下啊!~~~ lixianfeng31@yahoo.com.cn
作者: sanma 时间: 2006-5-14 05:11
也给我一份吧
wxm_oplux@163.com
作者: guangang 时间: 2006-5-15 17:55
hacker兄，麻煩發一份給我，謝謝！
mark_guan@126.com
作者: huweiqian 时间: 2006-5-15 22:33
怎么一有资料就有一大堆人留言索取资料，大家也发表一下自己在工艺上的看法啊．
作者: chrainbow 时间: 2006-5-15 23:45
应力的文章给我一份。
chrainbow@126.com
谢谢！
作者: jravendale 时间: 2006-5-18 03:38
欧要一份，谢谢！jravendale@126.com
作者: yongwu 时间: 2006-5-21 08:29
谢谢，能给我一份吗？我刚注册，想通过论坛多多向各位学习．
yong_wu@126.com
作者: 流明 时间: 2006-5-24 23:50
redleaf143@126.com
谢谢!
作者: snebur 时间: 2006-5-25 06:17
考虑低应力材料!肯定搞定!所以flashman说的有道理!
作者: qingshui 时间: 2006-5-26 22:46
应力资料，谢谢！
最近遇到一个难题，很需要这方面的资料
bitjiajia@21cn.com
作者: chz321 时间: 2006-5-29 00:28
我也需要，发一份给我应力方面的文章吧，
chz321@126.com 谢了
作者: Airsea 时间: 2006-5-30 00:14
离子源能量大只是膜层应力大的一个因素, 应力还和镀膜温度, 真空度, 蒸发速率, 各种膜料的厚度等有空, 是一个综合性的指标. 可以挑几组条件做做试验.
作者: susie 时间: 2006-6-28 19:55
susie_opt@hotmail.com
3xs
作者: few 时间: 2006-7-4 02:02
iqwer@hotmail.com
Thank you
作者: faye119 时间: 2006-7-6 18:00
谢谢hacker大哥，我也要一份的。。
faye7758@163.com
作者: 大鬼 时间: 2006-7-6 23:36
谢谢，给我也发一份学习学习。newyj@sina.com
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