光电工程师社区
标题: 怎样提高研磨产品的面形? [打印本页]
作者: nhg_wh 时间: 2005-11-1 06:17
标题: 怎样提高研磨产品的面形?
要想减少研磨产品的光圈数,应该怎样做?
作者: diamond 时间: 2005-11-5 05:38
修盘！！精磨/抛光两道工序要匹配
作者: diamond 时间: 2005-11-5 05:40
修盘！！精磨/抛光两道工序要匹配
作者: nhg_wh 时间: 2005-11-5 06:37
好主意!但是研磨盘的面形为多少时才比较合适?
作者: yanzi 时间: 2005-11-9 03:54
那就要看你的产品的要求是什么？
作者: nhg_wh 时间: 2005-11-9 05:38
谢谢大家支持!
发如果直径160mm,厚度为1.5mm的圆板,平面度要求做到15微米,该怎样修盘?
作者: 963111 时间: 2005-11-15 20:36
首先采取钢性上盘,精磨可以采取磨砂方式,但余量要小,抛光采取上抛和下抛的方式来修整光圈.
作者: 长风白羽 时间: 2005-11-18 19:44
是双面研吗? 工件的面形精度还跟运动方式有关,运动方式不合适,面形精度有可能越磨越差.
作者: nhg_wh 时间: 2005-11-23 19:16
因为宽带续费， 好今天没来！
感谢楼上各位的指点！！
我的精磨是双面研磨，均为钢性盘，抛光也是双面抛，但产品的平面度时好时坏，我的工艺没有改变呀！
修盘的要求是什么？产品的平面度与产品的原材料的面形有多大的关系？？
作者: 963111 时间: 2005-11-23 22:33
楼上的问题我们也遇见过，就如你所说的来料的面形不好，直接影响平行度．当时我们采取先划分面形，好的去加工，不好的采取手修后，再加工．
作者: nhg_wh 时间: 2005-11-27 01:33
这也是个好办法,但有时面形好的产品精磨\抛光后平面度还是差,哪道工序对平面度影响最大?如何克服?
作者: nhg_wh 时间: 2005-12-24 06:17
请大家接着发表高见!!!
作者: mengyou12 时间: 2005-12-25 03:22
15微米在我公司已经属于不合格品了，客户要求应该是5微米，这光盘基片我去年做过，因为目前这基片价格战太厉害，我司已经没投产只打样了，你把你这里的设备和辅料情况说下我看看能不能给你拟道工艺
作者: nhg_wh 时间: 2005-12-25 04:08
是吗?
我用的是兰新的研磨床,粗磨W40,精磨1200#,帮忙看看
作者: mengyou12 时间: 2005-12-25 04:34
[B]以下是引用[I]nhg_wh[/I]在2005-12-24 20:08:00的发言：[/B][BR]是吗?
我用的是兰新的研磨床,粗磨W40,精磨1200#,帮忙看看
作者: nhg_wh 时间: 2005-12-31 05:15
mengyou12,谢谢
| 欢迎光临 光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/) |
Powered by Discuz! X3.2 |