光电工程师社区

标题: 求助：离子辅助蒸发成膜有点，急呀! [打印本页]

作者: fulong927 时间: 2005-12-16 17:59
标题: 求助：离子辅助蒸发成膜有点，急呀!
近镀YAG晶体，采用的是离子辅助蒸发的方法，牢固度，光学特性都很好，但是发现表面又很多点。不用离子源就会好狠多，不是何原因？我用的时考夫曼源，能量在200V以下，应该不算高。请各位大虾指教。

作者: chz321 时间: 2005-12-17 00:48

离子源的问题，可能是离子源打火引起的点子，

作者: 宇轩 时间: 2005-12-17 05:23
打火是会造成这样的现象，不过你也要考虑一下膜料的喷溅，真空室的卫生等

作者: fulong927 时间: 2005-12-25 21:22

请问楼上，我用的是ZrO2和SiO2，这两种料容易喷溅吗？

作者: sanma 时间: 2005-12-26 03:57

以上说的有道理，离子源稳定的情况下，应该不会产生点子，我觉得最大可能是机台脏和膜料的点子，ZRO2易产生点子

作者: zzzz 时间: 2005-12-26 21:31

楼主不是说了不用离子源会好很多吗?

那多是离子源打火了.

可以考虑清洁离子源

作者: kuan 时间: 2005-12-28 23:57

离子源放电造成的

作者: cityu 时间: 2006-4-6 18:30
标题: [原创]要做以下斑点分析！！
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作者: lunik 时间: 2006-4-7 21:15
应该是离子源把ZrO2的一些小颗粒加速到基片上了，就会出现白点！还可能是真空室内太脏了！

作者: laoxianccc 时间: 2013-4-27 13:25

作者: ghtzna 时间: 2013-4-27 16:16
当时的环境一样么

作者: 新手求教 时间: 2013-4-28 11:11

作者: 飛兲寶赑 时间: 2013-5-5 09:00
离子源放电造成的，重新保养IB

作者: 拋開①苆 时间: 2013-7-9 20:23
不影响生产效果情况下，适当的减少ION的强度，应该是打火造成的，是否该清理了

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