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标题: 工艺 [打印本页]

作者: jipeng 时间: 2006-2-19 04:05
标题: 工艺
用离子源在常温下镀TIO2应该怎么操作，具体参数应该怎么控制。

作者: jumiel 时间: 2006-2-20 07:20

用的是Leybold 的APS吗？

作者: wazxq 时间: 2006-2-20 19:14
常温不行了，除非离子源很强~~~~~~~~~~

作者: kuan 时间: 2006-2-23 21:49
为什么常温下不能用???

作者: lch 时间: 2006-2-24 20:18

向各位请教：

请问光学基板镀膜后，膜层表面看起来很粗糙（镀膜前是清洁得很洁净的），但实际用的话又不影响光谱特性。

作者: flytiger8 时间: 2007-12-14 21:55
新手路过，学习一下

作者: 缘睐汝痴 时间: 2012-4-24 22:29
楼主你好，请问现在还在东利来吗

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