哈哈,看来你也是一个新手呀.
镀膜点子一般就是薄膜缺陷
一般说来,缺陷的成因有以下几种:(1)由薄膜生长过程产生,如不同的基板温度缺陷不同;(2)由基板表面原有缺陷引起,如镀膜区环境和基板不够清洁产生的;(3)沉积过程产生的,如材料的喷溅。对于结瘤缺陷,一般认为其形成的原因是沉积过程中种子粒子(核)的遮掩效应引起的。种子的来源很多,有基板本身产生的,如表面的污染、附着在基板上的抛光和清洗的残余物,沉积室中的杂质,还有膜材料的增发源本身产生的,如材料中捕获气体的爆炸,熔融材料的溅射,高温固态相移(如二氧化铪/二氧化硅薄膜的种子产生),静电排斥等。研究结果表明,对于不同沉积条件和沉积方式,种子的形状、大小、深度也不完全相同,其原因在于种子的来源不同。如果种子是源材料的熔融的喷射而引起的,则由于表面张力和重力,预计种子的形状是规则的球形或旋转椭球形的,则形成的缺陷是典型的结瘤缺陷。如果种子是由于固态源的喷射或弧光产生的,则种子的形状是不规则的,形成的缺陷的形貌也比较复杂。由上述分析可知,可以根据缺陷的形貌、大小推知种子的形貌、大小,通过详细研究种子的形状、深度、组成推知种子的来源,从而优化成膜工艺消除种子源。
一般是灰尘引起,环境脏、真空室脏或镀膜盘、镀膜工装脏等
如果你的基板不清洗干净这是最直接的原因,或者你装基板的周转箱是否处理干净等等.
或者你的蒸发工艺有问题,膜料的熔化工艺, 沉积时膜料的状态,是否有溅料现象,这些都应该考虑进去.
想请教楼主,温度不同怎样的会引起点子呢/??
我们镀膜的时候三种料分别用三个不同的温度。一直出现的点子问题无法解决。帮帮忙看看。。
也可以电邮我:
faye7758@163.com
有很多原因都可能造成膜料点的产生: 蒸发速率的变化,磨料没熔透~~~~~~~~~~~~~~
二楼想请教您一些关于SIO2镀膜点子的问题,谢谢!
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