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标题: 这个膜系怎么设计？给指条明路吧！ [打印本页]

作者: zhuoyi_0225 时间: 2006-5-16 15:17
标题: 这个膜系怎么设计？给指条明路吧！
我要做毕业论文，但是我原来的专业是半导体器件物理，光学方面不懂
老师给了我一个课题：
１．波长１５５０nm
２．R＜０．２％
就这些，没有其他要求
我没学过薄膜，也没学过物理光学，请各位大虾给指条明路！
小弟先行谢过

作者: zhuoyi_0225 时间: 2006-5-16 15:18
标题: －
我的邮箱：zhuoyi_0225@163.com

作者: zhuoyi_0225 时间: 2006-5-16 15:22
标题: -
ps:　要做增透膜，
题目：光纤端面减反射膜的设计与制备

作者: guangang 时间: 2006-5-16 19:37
使用材料：H=Ta2O5和L=SiO2,控制波長550nm,膜系初始結構為H3L(高折射材料一個極值，低折射率材料3個極值），然後使用軟件優化(基板材料為BK7,光纖頭的材料需要查一下，實際設計應使用此材料設計），得到結果為:G/0.92H 3.7L/A，即可得到1550nm單點AR的膜系設計，實際加工需要試驗，另外，我手頭上沒有此方面的資料，論文要寫的漂亮一點還需要寫一些理論方面的東西，你自己去網上找找看，再請教論壇上的高手！

作者: wazxq 时间: 2006-5-17 00:55
老Guan说的真全，呵呵~~偶补充一点，一般光纤头的折射率就是1.44

作者: zhuoyi_0225 时间: 2006-5-17 14:29

谢谢两位!

作者: guangang 时间: 2006-5-18 16:56
光這個H3L咱就幹了半年，太熟悉了！嘿嘿。。。。

作者: brico2000 时间: 2006-5-21 23:31

我也正在作类似的减反膜.希望能和你交流一下

QQ19378386

EMAIL==brico2000@163.com

小郭

作者: nagayama 时间: 2006-5-22 18:56

1)使用材料：H=Ta2O5和L=SiO2,控制波長510nm,,G/H4L/A，即可得到1550nm單點AR的膜系(理论值R＜０．1％)

2)使用材料：H=TiO2和L=SiO2,控制波長510nm,,G/H4L/A，也可得到1550nm單點AR的膜系(理论值R＜０．1％)

作者: john03062003 时间: 2006-11-6 18:05

其实这个挺简单的，找个软件设计模拟一下就出来了。

作者: youfishno 时间: 2006-11-7 00:40

楼主是哪个学校呢？

作者: 315 时间: 2006-11-8 19:25

是不是cust学院？？

作者: 终南子 时间: 2006-11-19 19:15

这个指标已经很低了

作者: skyperfect 时间: 2006-12-2 00:26

学习中。。。。

作者: weizhong 时间: 2007-4-18 01:44

使用材料：H=Ta2O5和L=SiO2,控制波長550nm,膜系初始結構為H3L(高折射材料一個極值，低折射率材料3個極值），然後使用軟件優化(基板材料為BK7,光纖頭的材料需要查一下，實際設計應使用此材料設計），得到結果為:G/0.92H 3.7L/A，即可得到1550nm單點AR的膜系設計，實際加工需要試驗，另外，我手頭上沒有此方面的資料，論文要寫的漂亮一點還需要寫一些理論方面的東西，你自己去網上找找看，再請教論壇上的高手！

老GUAN你好，我也是初学者，我想问一下，上面资料的内容，在（H=TA205和L=SI02）中H是指英文中的高吗，L是英文中的低吗？楼主说的R小于2% ，那么R在这里代表什么呢，多谢了

作者: guangang 时间: 2007-4-18 05:47
H表示该材料为高折射率材料，Ｌ表示该材料为高折射率材料，Ｒ指的是表面剩余反射！比如ＢＫ７材料，未镀膜的表面反射是４.２％左右，若按照以上设计１５５０ｎｍＡＲ膜的话，表面剩余反射可降低到接近０％（中心波长处）．

作者: healin 时间: 2007-4-19 05:02

还可以用非规整膜系。。。

理论上可以达到0反射

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