最近開始製作IR CUT但是發現玻璃表面幾乎都是"霧面",好像是薄膜表面出现散射
請教各位高手是否能給小弟一些意見
TIO2料吧
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原材料研磨抛光的问题
可是原材是德國SCHOTT D263T應該不會有這樣的問題吧
我是懷疑會不會是SiO2
但也有人說是通氧量的問題
D263T是薄片吧
这种材料挺有意思的.
先试试调整通氧参数以及开门时间。如还有问题,再一起交流。
基材 D263T 鍍膜機靶材 SiO2 NbO5 鍍膜機Shincron-RAS1100濺鍍機
原始參數:IR厚度3.8um(34 Layers) Ar 150sccm ; O2 85sccm 霧面
做了幾個小實驗
1. 鍍單層SiO2(1.9nm)+單層NbO5(1.9um) 無霧面
2. IR635厚度3.8um(61 Layers) 霧面(但有少數幾片霧面情況改善)
3. IR厚度3.8um(34 Layers) Ar 120sccm; O2 80sccm 霧面
發現跟基材應該應該無關,也不知道是不是溫度造成
請各位大大指教
34 Layer膜層設計與鍍膜參數會非常重要
对你这个问题挺感兴趣。
你说的雾面是不是对着检测灯光看有一层均匀的发白现象(整个面发蒙)。
你给的参数不足,如果可以你话,就补足吧,我比较一下。(速率,氧流量,power,...)
1. 鍍單層SiO2(1.9μm)+單層Nb2O5(1.9μm) 無霧面(修改了一下)
(这个试验也做,佩服~)
霧面的確是整面均勻發白現象
Ar 150sccm ; O2 85sccm
ower 3500W
已經想不出有什麼實驗可以證實了 T___T
材料的结晶化是比较头痛的事。
你试着从温度,Power方面做做看!这就是工艺,就得自己摸索!
发雾有多方面的原因。
表面研磨质量、温度、沉积压力、沉积速率不当都可能会造成镜面发雾。
建议改变一下溅射压力看看。
[B]以下是引用[I]few[/I]在2006-7-19 8:48:00的发言:[/B][BR]p霧面的確是整面均勻發白現象/ppAr 150sccm ; O2 85sccm ; Power 3500W/pp已經想不出有什麼實驗可以證實了 T___T/p
感觉还是要重点考虑清洗的影响。
如果可能的话,用人工擦拭几片基板,用同样的工艺,看结果怎么样。
(基板较大的话,人工擦拭可能有点难度,^_^)
这样的事情非常头疼。你在镀制的时候可以考虑放进k9玻璃进去。这样能够排除玻璃的问题。
我有試過以鹼性洗劑擦拭表面
可是鍍出來好像也沒有任何改善的跡象
真是惱人的霧面 -.-"
单纯用无水乙醇+无水乙醚擦拭基片,不要用其他洗剂。
以前用电子枪的时候发生过“发雾”现象,现在用溅射,还没发生。
密切关注中~
19楼的HUHU老兄,
我用电子枪镀MgF2的时候发生“发雾”现象,能不能给我解惑呢?是什么原因,怎样解决?
多谢了!
我的邮箱和电话:13085161950@hb165.com

密切关注镀膜中的“发雾”现象。
发雾的主因还是材料的结晶化,改善溅射条件能够达到一定的效果。在厂商的技术交流会上对此问题作过一些探讨,可以作为参考。
不知道Few老兄是否已经解决了“发雾”问题。
20楼killjackson老兄:
很抱歉,以前我只是在尺寸较小的基板上大量使用过MgF2,当时没有出现过表面发雾的情况。
我猜除了基板表面洁净度,材料结晶化以外,可能还要考虑一下MgO的作用。
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