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标题: SiO2的磁控溅射 [打印本页]

作者: xiaoqu01 时间: 2006-9-5 01:55
标题: SiO2的磁控溅射

请问哪位大虾能讲解下关于磁控溅射SiO2时

能否加热吗?

因为我在溅射的时候,在利用热电偶加热,就无法加热.只能在常温是溅射

作者: hydralisk-1 时间: 2006-9-16 11:39

这个。。。不大明白你想表达什么？你是不是想在溅射SIO2时同时加热基板吗？当然可以了，不过有这个必要吗？

作者: zzzz 时间: 2006-9-18 17:47

设备有问题吧

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作者: liuhai5911615 时间: 2006-9-19 04:17
我们就是那样做的啊~~~可以加热的~~好像是室内加热吧~~

作者: dinghaiyi 时间: 2006-9-21 00:38
可以加热，不过要注意加热的均一性。

作者: 零点910 时间: 2006-12-16 00:16
加热当然没有问题，在ito镀膜中部就使用二氧化硅作为阻挡层镀制的吗

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