上海纳微公司矩形磁控溅射靶采用国外先进技术设计，国内精心制造。我们的直线磁控靶机械部分采用三维计算机辅助设计，磁场部分用有限元方法优化设计。主要部件采用与真空环境相容性好的不锈钢和无氧紫铜。磁场采用高强度磁铁。表面最大磁场强度可达1000高斯以上。具有镀膜速度高，均匀性好，靶材利用率高，膜层致密，结合力好等优点。
矩形靶可长达200厘米以上。并可按用户特殊要求定做矩形溅射靶。除为客户提供直线靶外，我们还为客户各种进口镀膜生产线提供维修，翻新，改造直线磁控靶的服务。
上海纳微真空技术有限公司
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