简单介绍一下试验背景和需求，高速摄影4500fps，曝光时间50us，cmos传感器，对象是易变形的半透明膜，尺寸大概为5cm*3cm*0.1cm。现在想在上面投射出若干平行片光，以测量其变形的程度。我本身不是学光学或测量的，我是学计算流体力学的......sigh所以不大懂，经费也不算足，目前想到这两种方法，请大家帮帮忙分析分析多给我的宝贵意见！
1）激光器+半柱透镜+光栅，这样应该行吧，缺点是激光器的功率要大一点，优点是省事。麻烦是买不到光栅，欢迎手头有资源的给我点消息。
2）激光器+狭缝+声光偏转器和压控振荡器+半柱透镜，这样子也行吧？优缺点和上面相反就是。
至于到底买半导体激光器还是氦氖激光器，目前还没有想好。请大家帮忙看看怎么做合适！多谢多谢！
| 欢迎光临 光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/) | Powered by Discuz! X3.2 |