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标题: 求教磁控溅射靶材相关问题 [打印本页]

作者: fishman_oecr 时间: 2007-5-16 09:00
标题: 求教磁控溅射靶材相关问题

前段时间在合肥科晶公司买了LiNbO_3的单晶靶材，在3pa气压，15立方厘米/秒氩气流，80W入射功率，水冷靶材托盘的条件下溅射20分钟，结果靶材粉碎。不知哪里出了问题，请高手指点不胜感激。

PS：有做磁控溅射，或LiNbO_3薄膜的兄弟可以相互交流哈。

我的QQ：17625001

作者: nanovac2 时间: 2007-5-17 17:23

功率不要一下子加上去，分好几步加上去。

作者: caodahua 时间: 2007-6-5 11:41
冷却效果不佳导致靶材开裂

作者: huhu 时间: 2007-7-1 18:10
问题原因找到了吗？

正常靶材，初次使用时，不要连续溅射过长的时间。有条件的话可以通过观察窗看看靶材溅射过程是否有异常。
工作水压和温度都要进行控制。必要的时候监控一下出水温度。

谁了解靶材制作工艺？

作者: dianzikexue 时间: 2007-7-2 09:02
是不是冷却效果不够理想导致靶温过高啊学习中

作者: killmeok 时间: 2007-7-26 23:00
建议使用RGA对真空室环境进行分析

作者: n122969 时间: 2007-7-28 00:56
這問題有三方向:
(1)工率過高,濺射時間過長
(2)底座水冷道設計是否有問題
(3)靶材晶格不均,濺射時變形量過大而造成裂,
可目視裂痕方向做基本辦別

作者: jeasams690 时间: 2009-5-19 22:19
看来你的话题没人顶啊，做靶材的可以到“靶材之家”去看看，那里全是搞靶材的，不过是个新论坛，要大家一起顶：www.bczj.net

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