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标题: 离子源辅助镀膜技术 [打印本页]

作者: gb936 时间: 2007-6-18 03:49
标题: 离子源辅助镀膜技术
。。。。。。。。。。。。。。
现在可以下了。原来的压缩有问题，对不起。

[ 本帖最后由 gb936 于 2007-7-24 23:51 编辑 ]

离子源辅助镀膜技术.pdf

637.94 KB, 下载次数: 792, 下载积分: 光电贝 -10 元

作者: qx__wei 时间: 2007-6-18 10:32
谢谢！我看看！！以前用过射频离子源，现在用霍尔源！
怎么解压出错！？？

作者: hithy 时间: 2007-6-23 22:43
打不开，解压缩时出现不可预料的文件末端

作者: cchingoo 时间: 2007-7-12 15:28
打不开，解压缩时出现不可预料的文件末端

作者: zhengtianliang 时间: 2007-7-13 01:12
不会吧老大，解压缩时出现不可预料的文件末端！！！！！！

作者: lunik 时间: 2007-7-24 09:22
打不开呀，给再发一份好不好？谢谢老兄了

作者: zjtzzy 时间: 2007-7-25 08:40
打开后文件出错，里面内容乱码。

作者: happy3635 时间: 2007-8-19 15:15
资料很好啊
多谢啦

作者: XIANL 时间: 2007-9-24 11:08
什么时候的论文啊.怎么样才能下载啊,

作者: XIANL 时间: 2007-9-24 13:17
资料真的挺好

作者: XIANL 时间: 2007-9-24 13:24
什么东西啊,全是乱字符,骗人的把

作者: 王东 时间: 2007-10-17 11:38
让我来学习一下吧

作者: ipshjh 时间: 2007-10-17 15:07
谢了thank you very much

作者: ipshjh 时间: 2007-10-18 23:07
谢了thank you very much

作者: zao 时间: 2007-11-5 18:42

没米了啊

作者: shaodong1311 时间: 2007-11-5 21:18
谢谢斑竹的大公无私把

作者: c.w 时间: 2007-11-5 22:39

作者: c.w 时间: 2007-11-14 23:20

好东西,

作者: flytiger8 时间: 2007-12-14 21:00
太感谢楼主了，thank you

作者: o7758521 时间: 2007-12-28 22:07
谢谢！我看看！！以前用过射频离子源，现在用霍尔源！
怎么解压出错！？？

作者: 王东 时间: 2007-12-28 22:09
谢谢楼主了我学习了哈哈哈

作者: hcatp812 时间: 2008-5-27 23:54

非常感谢!!! 正在需要中

作者: nk3100 时间: 2008-6-15 17:25
谢谢你的关照

作者: nation 时间: 2008-7-1 03:04
下载资料的地方我是要顶一下的虽说我不要这些东西。

作者: imgyang 时间: 2009-5-6 09:59
对不起，您的金钱不足，无法进行本操作(小于 0 ）

新来的，如何挣钱？

作者: 中校 时间: 2009-5-6 21:06
谢谢共享.......................................................

作者: milantree 时间: 2009-5-8 11:42
资料不错，有没有更详细一点的光学镀膜

作者: zll0605 时间: 2009-5-19 11:18
下来，看看，嘿嘿

作者: gingerginger 时间: 2009-7-15 16:18
谢谢大家的资料！！！！！！！！！！！！！！

作者: chenguozheng 时间: 2009-8-17 14:34
文件还不错，谢谢楼主了。

作者: linzhimin3350 时间: 2009-9-1 12:28
和我的培训讲义基本一致

作者: wx110119120 时间: 2009-11-1 17:34
不错啊很好谢谢 ·~~~~~~~~~~~~~

作者: yuangong 时间: 2009-11-21 14:25
我好想看看啊，多谢楼主啊

作者: lixuefeng 时间: 2009-11-21 22:54
谢谢！！下了！！正好

作者: lixuefeng 时间: 2009-11-21 22:57
谢谢！！下了！！希望有用

作者: guiliok 时间: 2009-12-19 19:54
资料真的挺好

作者: 何谓人 时间: 2009-12-20 20:47
很好,谢谢楼主的贡献!!!!!!!!!!

作者: lister3532 时间: 2010-4-20 01:48
希望藉著離子助鍍改善我目前n值提高n值謝謝分享

作者: sunmang 时间: 2010-4-27 03:01
非常感谢啊！！！！！！！！！！！！！

作者: tonghua44 时间: 2010-5-30 17:01
tonghua44@163.com谢谢

作者: springwu 时间: 2011-6-14 15:06
好东西

作者: a99533126 时间: 2011-7-11 15:13

学习一下吧

作者: wangjg8955 时间: 2011-8-25 22:24
谢谢！

作者: keyanfang 时间: 2011-9-10 21:40
下了还是乱码，根本没办法看啊

作者: 冷月凝霜 时间: 2011-9-12 12:13

作者: 逐梦者 时间: 2011-9-13 23:46
晕，正想下，看评论就知道自己该

！

作者: cikelong2000 时间: 2011-9-23 11:01
北京镨玛泰克全面提供各种功率离子源以及磁控溅射靶和各种弧源,有需要请联系13693572892 pmtek_lxl@163.com
一PowerIon系列圆形霍尔等离子源的特点简介

结构先进

等离子体束流大

可在高温环境下长期可靠工作

完全适用于反应气体

悬浮电位显示

安装简便、维护简单运行成本低

空间均匀性强

操作简单
I.

二阳极膜离子源的特点
 大束流,高密度
 无栅极和灯丝
 适合各种工作气体:O2, N2和
碳氢气体
 能在溅射压强下工作
 离子束能量范围:100~2000eV
 维护简单
基体预处理提高膜层附着力
提高膜层聚集密度
有效控制薄膜内应力,调整成分化学配比,优化显微结构

三受控型阴极弧源
 阴极弧源蒸发时而不产生熔池，可以任意方位布置，可采用多个弧源同时工作。
 离化率高于达80％，显著提高膜层附着力和性能。
 沉积速率快、效率高，无环境无污染、节能效果明显。

四溅射阴极源
 有限元计算磁场设计
 磁铁与水隔离, 避免性能退化
 高靶材利用率
 高溅射速率、高功率密度
 兼容射频和直流溅射模式

作者: WEI爱依旧 时间: 2012-1-11 23:53

作者: wdydede 时间: 2012-5-11 01:17
在别处看到过，

作者: cqh 时间: 2012-5-31 12:22

作者: samchou21 时间: 2012-11-26 14:25
打开后文件出错，

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