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标题: 关于ZrO2的控制 [打印本页]

作者: jingxiaobao 时间: 2007-7-28 02:08
标题: 关于ZrO2的控制
大家来讨论一下,怎样控制ZrO2的蒸发,使其能够稳定?
有经验的同行,大家多发表意见啊.

作者: huangdengpin 时间: 2007-7-29 16:48
控制ZrO2的蒸发,用电子枪的话,须先熔料.熔成汤即可.这样它较稳定.

作者: huang12949 时间: 2007-7-29 19:04
晶控控制没搞过,光控搞过三四年,
不需要提前预熔,只在要镀ZRO2时预熔,电流比蒸发电流要大,电子枪效果要好,扫描频率要快,以前用日本机扫描点分布呈中心对称圆形分布,(现在用了一台国产机,扫描呈十字形分布,不爽),加氧与否视具体情而定.

作者: zzzz 时间: 2007-7-30 07:48
ZRO2能融化吗?
等溶成汤,估计都被"喝"光了

作者: jingxiaobao 时间: 2007-8-3 22:11
谢谢各位,如果有什么材料能代替ZrO2的特殊性质的话,我想这可能是材料界的一个突破.

作者: huangdengpin 时间: 2007-8-3 22:35
有这种材料能代替ZrO2的特殊性质

作者: niechunyang 时间: 2007-8-30 20:59
国产的杂气很多，那个东西浪费，用了一次就要换，

作者: huangdengpin 时间: 2007-9-8 08:43
要想稳定起折射率，烘烤温度在100度左右，温度太高了负变现象严重。本人搞过

作者: 镀膜帮办 时间: 2007-9-8 12:25

原帖由 jingxiaobao 于 2007-8-3 22:11 发表
谢谢各位,如果有什么材料能代替ZrO2的特殊性质的话,我想这可能是材料界的一个突破.

不知道老兄要用ZrO2的什么特殊性质,不晓得材料界朝哪个方向突破!

作者: 小西 时间: 2007-9-8 14:10
用过一段时间的ZRO2,但从没有融成汤过!

作者: x_x_x_f 时间: 2007-9-8 16:36
TO: huangdengpin (黄登品)

如果温度一百度，那么膜系中有MgF2的话牢固度行么？
如：Al2O3/ZrO2/MgF2/ZrO2/MgF2的五层减反射膜？

作者: wangzhengkm 时间: 2011-10-7 00:01
ZrO2能熔吗？？？？

作者: ipshjh2005 时间: 2011-10-10 07:22

作者: ipshjh2005 时间: 2011-10-11 07:25

作者: fql3310 时间: 2012-8-11 17:28
你用碎料就是这样的．

作者: 相伴/sun天涯 时间: 2012-8-12 09:33
可以用柱状的ZRO2呀我现在用的是18*12大小那种不用熔好控制

作者: xiaojiang007 时间: 2012-8-13 09:29

huang12949 发表于 2007-7-29 19:04
晶控控制没搞过,光控搞过三四年,
不需要提前预熔,只在要镀ZRO2时预熔,电流比蒸发电流要大,电子枪效果要好, ...

我也是搞光控的，多交流

作者: HGcoating 时间: 2012-8-13 10:35
100度低了点吧，工艺做好了折射率还是很稳定的

作者: lkai1014 时间: 2012-8-13 12:53
我还是喜欢用柱状的,颗粒的不好熔,易有凹坑.要不直接用混合料OH-5也成呵呵

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