光电工程师社区
标题:
五氧化二钽 求助
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作者:
NOKIA
时间:
2007-8-19 22:20
标题:
五氧化二钽 求助
那位老师~用过五氧化二钽 能告诉我一写使用参数么?
比如~折射率 蒸发时功率 基底温度 蒸镀时本体真空维持在多少 放气量 做超宽带增透 比 ZRO2 能提高多少带宽
现在一公斤多少钱 那个牌子用的效果好 是颗粒还是块状 的好用呢?
希望有用过的师傅告知~~ 不胜感谢~!!
作者:
Leesnow
时间:
2007-8-20 08:19
你还真是新手,那家公司的啊,我可以告诉你
作者:
szhvxcy
时间:
2007-8-20 09:52
先买,然后再研究以上参数
作者:
ic5
时间:
2007-8-20 11:59
根据镀膜设备和镀膜方式的不同,其参数有很大的不同!
折射率一般在2.1@500nm左右.
作者:
NOKIA
时间:
2007-8-20 12:43
在镀制五氧化二钽时是否需要充氧
作者:
终南子
时间:
2007-8-20 18:19
当然要充氧了,参数控制不好,是很容易造成吸收的.
作者:
Leesnow
时间:
2007-8-20 23:25
Material Ta2O5
Wavelength Refractive Index Extinction Coefficient
250.00 2.65000 0.40000
300.00 2.50000 0.00400
350.00 2.30000 0.00000
400.00 2.20000 0.00000
450.00 2.15000 0.00000
1000.00 2.10000 0.00000
2000.00 2.10000 0.00000
作者:
Leesnow
时间:
2007-8-20 23:27
实际根据你的设备和镀膜参数会有变化!可见光区,小心吸收,其他的可以问销售厂家啊!
作者:
zzzz
时间:
2007-8-27 11:00
Ta2O5材料.pdf
(116.06 KB, 下载次数: 37)
2007-8-27 11:00 上传
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发篇文章给你参考用
作者:
niechunyang
时间:
2007-8-30 20:49
我在镀制TA2O5时候。有两个极值,比如开始20%光亮,经过一个极值到第二个的时候,竟然低于20%,到了15% 加了更多的氧气也不行,希望师傅们指点
作者:
zzzz
时间:
2007-9-3 09:00
几个机智和厚度相关
并不是O2越多越好了
IAD了不?
作者:
shaodong1311
时间:
2007-9-3 15:39
你用的是什么机器啊,是要看机台的,有无离子源是不一样的!
作者:
gxbm
时间:
2007-9-17 12:12
好乱啊
作者:
shaodong1311
时间:
2007-9-19 23:17
有几个极值是要看监控波长的,选好波长就可以想要的极值了(比如大家都喜欢用1个的)。
作者:
shaodong1311
时间:
2007-9-19 23:44
做好是用离子员的做,这样做的膜层才能稳定,就不会有乱七八糟的事情了。
作者:
shaodong1311
时间:
2007-9-19 23:50
还可以适当加氩气镀膜!
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