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标题: 问个浅显的问题,真空室越大(高),相对而言是不是膜厚均匀性越好啊? [打印本页]

作者: ferry 时间: 2007-8-27 13:23
标题: 问个浅显的问题,真空室越大(高),相对而言是不是膜厚均匀性越好啊?
问个浅显的问题,真空室越大(高),相对而言是不是膜厚均匀性越好啊?

作者: ferry 时间: 2007-8-28 09:55

高手怎么不回答下啊

作者: zzzz 时间: 2007-8-30 08:03
适当即可
真空是起码要求
到了一定的真空,影响不大

作者: Leesnow 时间: 2007-8-30 11:21
标题: 回复 #1 ferry 的帖子
真空室还是真空度阿？
真空室有影响吗？不太清楚，好像是没有吧！膜厚均匀性和离子源的分布以及蒸发源，真空度都有点关系！

作者: x_x_x_f 时间: 2007-8-30 15:54
真空室越大，膜厚均匀性越差。
很明显，如果只考察伞盘上的一个很小的环带，均匀性肯定好；
如果这个环带变宽，那么均匀性肯定就需要做一些调整；
实际的，如果真空室越大，那么膜厚均匀性的修正就越困难，修正板越难修。
这个是我个人的看法，互相交流一下。

作者: niechunyang 时间: 2007-8-30 20:36
那个是有科学依据的，要设计好了在定

作者: ferry 时间: 2007-8-30 22:32
标题: 回复 #5 x_x_x_f 的帖子
但是在奥普康的某型号中有这样的说法:
3、真空室内腔尺寸：φ1100mm×1400mm；
★注：我们把真空室的内腔高度由1100mm改为1400mm，极大地提高了蒸镀膜系的均匀性和离子源能量作用的均匀性，提高膜层的质量
不知到底哪个是对的了.

作者: zzzz 时间: 2007-9-3 08:57
内腔高度提高了这是整体结构调整,当然会影响均匀性了,

作者: chb0320 时间: 2007-9-5 09:50
均匀性好像是跟离子源、蒸发源、溅射源与基底距离、基片大小有关系吧？
如果镀的膜越大，离子源、蒸发源、溅射源与基底的距离应该相对越远，所以真空室越大是否有助于调节均匀性？
不知道对不对。

作者: wazxq 时间: 2007-9-5 19:58
真空室直径约大越难做好均匀性~~~~~~~~

作者: zzzz 时间: 2007-9-6 09:13
然以
..........................................

作者: 上海chen 时间: 2007-9-14 12:59
从我从事多年的镀膜经验来看,真空室的高度和均匀性有一定的关系.但无法用数据来给与解释.
真空室越高均匀性会好,但抽速会变慢.

作者: zinuo00a 时间: 2007-9-14 20:42
真空室越大,均匀性越不易控制.

作者: flytiger8 时间: 2007-12-14 21:42
大家的见解有点不同啊

作者: richjieyu 时间: 2008-2-14 16:54
影响膜均匀性的是真空度，真空室会影响真空度，真空室的大小都是经典的，像600~800~1100~1300~1500都是根据不同需要选择的！真空室的太大，真空度的均匀性不好检测，而且膜料在真空室的均匀分布不好控制和监测，选择合适大小的真空室的便可以！

作者: love_cs 时间: 2008-2-15 10:20
越大均匀性越差，和基片大小，发射特性等有关，很复杂的一个问题。

作者: love_cs 时间: 2008-2-15 10:22

原帖由 ferry 于 2007-8-30 22:32 发表
但是在奥普康的某型号中有这样的说法:
3、真空室内腔尺寸：φ1100mm×1400mm；
★注：我们把真空室的内腔高度由1100mm改为1400mm，极大地提高了蒸镀膜系的均匀性和离子源能量作用的均匀性，提高膜层 ...

这个应该是可以算出来的，可以让他们提供数据看看

作者: tfc 时间: 2008-2-17 10:13
同等大的腔体，提高高度有利于均匀性，不利于牢固性，折射率也相对低点。
同等高度，扩大腔体，均匀性变差。

作者: dongbeiren 时间: 2008-3-29 08:10
我的观点是,真空室高度越大,在同等条件下,膜层的均匀性就越好,因为膜的均匀性与蒸发距离的平方是成反比的,但是材料(镀膜膜料)的利用率低,成本高些,另外,真空室高度高,相对容积大,抽真空的速度慢些.
以上,供您参考一下子咯.

作者: qx__wei 时间: 2008-6-5 17:43
我用2050的机器，均匀性很难调，真空室越大均匀性越不好控制，mask的形状在这里是尤为关键，很难做到很好。另外机器越大转架越大，转架基本都是分体的，每次喷砂后重新安装时，对称，和变形的消除都是很难的，曲线也会产生差异

作者: nation 时间: 2008-7-1 03:30
真空窒的大小和均匀性的关系镀膜厂家不用去考虑，而是生产设备厂家去想办法解决

设备厂家将设备做好了，均匀性才好，做差了，均匀性就差。

作者: gxbm 时间: 2008-7-3 17:20

原帖由 tfc 于 2008-2-17 10:13 发表
同等大的腔体，提高高度有利于均匀性，不利于牢固性，折射率也相对低点。
同等高度，扩大腔体，均匀性变差。

还是不大不小的好啊

作者: tfc 时间: 2008-7-4 10:18

原帖由 nation 于 2008-7-1 03:30 发表
真空窒的大小和均匀性的关系镀膜厂家不用去考虑，而是生产设备厂家去想办法解决

设备厂家将设备做好了，均匀性才好，做差了，均匀性就差。

你发现国内哪个设备厂家解决了均匀性问题?好象母猪不会上树吧?

作者: 镀膜加游戏 时间: 2008-7-4 11:14
反之~~~~~~~~~~~~~~~ ~~~~~~~~~~~~~

作者: liwenjuanlwj 时间: 2008-7-5 08:35

原帖由 qx__wei 于 2008-6-5 17:43 发表
我用2050的机器，均匀性很难调，真空室越大均匀性越不好控制，mask的形状在这里是尤为关键，很难做到很好。另外机器越大转架越大，转架基本都是分体的，每次喷砂后重新安装时，对称，和变形的消除都是很难的，曲线也 ...

分体的，我们这边也是，以前装个要一个多小时，现在慢慢有个门道了，十几分钟搞定。主要喷砂变形是弧度回减小吧，装之前调大点弧度，就好了
关注你调这机器很久了，现在怎么样了？加油！

作者: nation 时间: 2008-7-5 15:56

原帖由 tfc 于 4-7-2008 10:18 发表

你发现国内哪个设备厂家解决了均匀性问题?好象母猪不会上树吧?

国内设备厂家和国外设备厂家都在想办法解决这个问题。
我说的是少数的厂家，
其实现在的设备我们在工艺上稍稍调整不是也可以用吗。

作者: tfc 时间: 2008-7-7 17:45

原帖由 nation 于 2008-7-5 15:56 发表

国内设备厂家和国外设备厂家都在想办法解决这个问题。
我说的是少数的厂家，
其实现在的设备我们在工艺上稍稍调整不是也可以用吗。

那当然，我们的镀膜工程师就是帮设备厂家改设备＼改工艺的．不然我们怎么混？
你搞业务的吧？

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