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标题: IR-CUT急 [打印本页]

作者: niechunyang 时间: 2007-8-30 20:13
标题: IR-CUT急
谢谢了，请给的意见呀，不然的话就死定了

TR-CUT透射率底.doc

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作者: zzzz 时间: 2007-9-3 09:04
吸收大
O2流量好象过大
离子源参数可能得调整.

作者: shaodong1311 时间: 2007-9-3 15:44
你在镀TIO2和SIO2是的参数是一样的吗?
正常做的是不一样的.
你是哪家公司的,可以告诉我吗?

作者: marcsle 时间: 2007-9-4 02:06
工艺参数没调整好，OS－50吸收太强！

作者: niechunyang 时间: 2007-9-4 18:36
有什么好的解决吗，哈哈，从设计到镀膜，我想可能都是重要的关键是怎么调？

作者: tarco 时间: 2007-9-5 14:45
看了還是不懂
請好心大大說明

作者: niechunyang 时间: 2007-9-6 07:53
那个TOOLING怎么调呀，该调多少呀，谢谢了！
另外不用离子源能不能做出IR-CUT呢

作者: niechunyang 时间: 2007-9-6 07:59
标题: 宽带增透探讨
我司在做400-700增透膜，要求每一点小于0.5%，我用al2o3 h4 mgf2 方法一；glass/mgf2 al2o3 h4 mgf2 方法二 glass/mgf2 al2o3 h4 al2o3 mgf2 但是效果不好，不知道物质和膜系是否有问题，谢谢师傅们的探讨

作者: gxbm 时间: 2007-9-19 16:39
你是在那学的镀膜啊？怎么你的膜系跟我的这么大差异？不同的路啊！

作者: john03062003 时间: 2007-9-20 16:44
你做的滤光片透过绿地我也感觉是OH-5的吸收所致，如果把这个问题解决掉就可以了，另外你说的可见光范围内增透，必须采用非规整膜系，否则的话要达到指标比较难。

作者: 上海chen 时间: 2007-9-20 17:12
能否请教一下：你有膜系中的H4是什么？你所用的中心波长呢？你整规膜系具体点？看看我能否做？也许我能帮你。

作者: niechunyang 时间: 2007-9-21 07:54
请教你是怎么做的，说出物质和组合

作者: marcsle 时间: 2007-10-6 19:46
我做IRCUT用AL2O3打底，然后H TI3O5,L SIO2组合，无离子源！35层，280摄氏度高温！

作者: snty 时间: 2007-10-8 12:39
离子源参数不对，吸收太强所致

作者: fasces9 时间: 2011-7-30 15:59

marcsle 发表于 2007-10-6 19:46
我做IRCUT用AL2O3打底，然后H TI3O5,L SIO2组合，无离子源！35层，280摄氏度高温！

用280摄氏度高温吗？
我司用250摄氏度

作者: 逐梦者 时间: 2011-8-30 19:52

研究一下，我是新手

作者: 逐梦者 时间: 2011-8-30 19:55
我建议下次有这样的问题，最好是插入图片，不要以附件的形式，麻烦！

作者: wangxudong1227 时间: 2011-8-31 00:16
为什么第一层用氧化铝呀？
为了增加膜层牢固度？还是为了在尽量少的膜层下镀出要求的曲线呢？

作者: ghtzna 时间: 2011-8-31 08:38
这个不同的机台TOOLING 是不一样的还有就是工艺参数也是不同的所以还是要靠自己

作者: wdydede 时间: 2012-6-10 20:36
弱弱地问一下：为什么要用AL2O3打底？先谢谢！
其实从设计上，AL2O3不起作用？

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