光电工程师社区

标题: 宽带增透探讨 [打印本页]

作者: niechunyang 时间: 2007-9-6 08:05
标题: 宽带增透探讨
在做400-700高透要求每一点小于0.5% 用al2o3 h4 mgf2 选了两种膜系 mgf2 al2o3 h4 mgf2
与mgf2 al2o3 h4 al2o3 mgf2 不知道可好，我做了效果不是很好，是材料和膜系有问题吗，谢谢师傅们的探讨

作者: zzzz 时间: 2007-9-6 09:12
al2o3和H4都不是很稳定的料,控制起来比较难

作者: xiaozhou 时间: 2007-9-6 18:29
是R<.5%吧,不难主要看什么材质

作者: niechunyang 时间: 2007-9-7 12:31
在普通玻璃上呀，H4还不稳定那该用什么？

作者: zinuo009 时间: 2007-9-9 14:44
试一试TiO2/SiO2/TiO2/SiO2

作者: lgciom 时间: 2007-9-10 21:12
第一层不用氟化镁，主要是把吸收问题解决一下，应该可以

作者: ferry 时间: 2007-9-11 11:22
弱弱地问一句,H4是什么膜料啊?

作者: jhxxmlhk 时间: 2007-9-12 00:17
S/H4/MgF2/H4/MgF2/H4/MgF2/Air,分光够宽,前两层镀稳定整个分光就稳定了.分光变异了制程也好修.在光学玻璃上镀AR膜Al2O3/H4/MgF2的组合是成功的,有时候考虑到品质问题首层需要镀Al2O3.

作者: jhxxmlhk 时间: 2007-9-12 00:20
个人经验来看Ta2O5不是那么稳定,用jeol离子源辅助镀膜的时候分光变异很奇怪的,不过R<0.5%的制程可以做,0.3的就不稳定了.

作者: 上海chen 时间: 2007-9-13 10:21
用离子枪辅助,采用ZNS/MGF2膜系工艺.效果不错的.

作者: ferry 时间: 2007-10-11 16:27
ZrO2和mgF2

作者: zhouchen0510 时间: 2008-1-10 19:23
标题: 回复 #5 zinuo009 的帖子
为什么必须用光控呢？应该是晶控比光控更精确啊

作者: 木子李 时间: 2008-1-10 19:42
弱弱地问一句,H4是什么膜料啊?我也听说过，还请赐教！

作者: qqucqquc 时间: 2008-1-24 22:49
标题: 回复 #1 niechunyang 的帖子
用H4和MgF2是比较好的选择。。。。。。

作者: ic5 时间: 2008-1-25 13:02
H4是德国默克（merck）开发的一种TiO2和La2O3的混合膜料，避免了TiO2的短波处吸收（360nm—7000nm ）,适合用于常温，普通镀膜方式成膜。可见光区折射率大约在1.95—2.2之间左右（根据成膜温度和波长的不同而不同）。

资料都说只有最外层用MgF2。不知道你为什么第一层也用MgF2???

作者: 无语了 时间: 2008-5-21 22:20
谁给解释下，1.第一层用AL2O3和用MgF2 有什么分别。2.两种材料分别起什么作用

还有谁告诉下膜系设计时IR CUT膜系初始怎么设计

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