光电工程师社区

标题: AR膜求助+资料分享 [打印本页]

作者: niechunyang 时间: 2007-10-14 14:54
标题: AR膜求助+资料分享
我们做产品：基片N=1.46 单面反射要求：R《0.25% 我们用膜料 AL2O3 H4 MGF2 我们想用TA2O5代替H4，没有用离子源，氧气到了300SCCM还是基片有发黄，不知道是怎么回事，请教师傅门，谢谢了

Ta2O5材料.pdf

116.06 KB, 下载次数: 87, 下载积分: 光电贝 -10 元

作者: lebmy 时间: 2007-10-15 00:10
hao dongdong

作者: john03062003 时间: 2007-10-15 10:36
镀后处理挺重要，否则Ta2O5的吸收就特别大，建议镀后退火

作者: jhxxmlhk 时间: 2007-10-15 10:51
靠!哪那么麻烦啊!有离子源什么都OK!还有不知道你用什么镀膜机,300sccm的充氧量吓死人啊!!!

作者: susan01 时间: 2007-10-15 12:47
标题: ??
为什么要用Ta2O5代替H4呢

作者: jhxxmlhk 时间: 2007-10-15 14:34

原帖由 susan01 于 2007-10-15 12:47 发表
为什么要用Ta2O5代替H4呢

Ta2O5比H4价格便宜啊!

作者: flytiger8 时间: 2007-12-14 21:36
楼上正解

作者: 木子李 时间: 2008-1-11 19:13
什么是退火，能否解释一下，谢谢！！！

作者: fasces9 时间: 2011-7-30 15:46
氧气充氧过高

作者: meilirensheng 时间: 2011-8-2 14:04
收藏~~！

作者: HGcoating 时间: 2011-8-2 14:30
波长都没有。。。。不知怎么跟你说

作者: jiayuch 时间: 2011-8-3 08:06

不知多大的机器啊？要用300sccm这么多？

作者: zhoubin 时间: 2011-8-17 14:37
收藏。问题没能力解答

作者: wangjg8955 时间: 2011-8-17 23:07
谢谢资料！

作者: 冷月凝霜 时间: 2011-9-12 12:46
顶顶顶

作者: yibi11 时间: 2011-9-12 16:46
你MGF2还充氧？还充这么多？基片不变黑已经很对得起你了

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