光电工程师社区
标题:
材料优化
[打印本页]
作者:
niechunyang
时间:
2007-10-17 19:05
标题:
材料优化
我这里镀膜要单面反射率R<0.25%, 基片N=1.46 ,不用H4 , 不知道大侠有何膜系,说来听听,不胜感激.
作者:
HGcoating
时间:
2007-10-18 10:02
看你用什么设备。国产ZRO2 SIO2就可以了
进口如用TI3O5 SIO2 很多种材料都能达到要求
作者:
XIANL
时间:
2007-10-18 10:40
为什么不用H4呢,你们公司没有那个材料?还是怎么的
作者:
niechunyang
时间:
2007-10-18 19:17
是的,呵呵,进口的,用AL2O3 ZRO2 MGF2怎样
作者:
shaodong1311
时间:
2007-10-19 16:10
用ti3o5 sio2 6层就可以啊!
作者:
niechunyang
时间:
2007-10-19 19:15
说的到容易,要稳定呀,呵呵,那个最稳定,无离子源
作者:
lebmy
时间:
2007-10-21 20:22
作者:
fasces9
时间:
2011-7-30 15:43
M 2H L 膜堆 M可以用AL2O3
作者:
逐梦者
时间:
2011-8-30 20:06
观点很犀利
欢迎光临 光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/)
Powered by Discuz! X3.2