光电工程师社区

标题: 材料优化 [打印本页]

作者: niechunyang    时间: 2007-10-17 19:05
标题: 材料优化
我这里镀膜要单面反射率R<0.25%, 基片N=1.46  ,不用H4 ,   不知道大侠有何膜系,说来听听,不胜感激.
作者: HGcoating    时间: 2007-10-18 10:02
看你用什么设备。国产ZRO2  SIO2就可以了
进口如用TI3O5  SIO2     很多种材料都能达到要求
作者: XIANL    时间: 2007-10-18 10:40
为什么不用H4呢,你们公司没有那个材料?还是怎么的
作者: niechunyang    时间: 2007-10-18 19:17
是的,呵呵,进口的,用AL2O3  ZRO2  MGF2怎样
作者: shaodong1311    时间: 2007-10-19 16:10
用ti3o5   sio2  6层就可以啊!
作者: niechunyang    时间: 2007-10-19 19:15
说的到容易,要稳定呀,呵呵,那个最稳定,无离子源
作者: lebmy    时间: 2007-10-21 20:22

作者: fasces9    时间: 2011-7-30 15:43
M 2H L 膜堆 M可以用AL2O3
作者: 逐梦者    时间: 2011-8-30 20:06
观点很犀利




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