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标题: 闪存制造商向55和45纳米节点过渡，推动浸没光刻系统需求 [打印本页]

作者: gb936 时间: 2007-10-31 00:03
标题: 闪存制造商向55和45纳米节点过渡，推动浸没光刻系统需求
荷兰光刻设备供应商ASML Holding发现，闪存制造商向55和45纳米节点的过渡，正在推动市场对浸没设备的需求。但该公司上季的业绩不佳。

该公司第三季度销售额为9.4亿欧元，比去年第三季度减少1.9%。净收益为1.68亿欧元，比去年同期下降2.9%。净订单合计为35套新的和5套翻新的系统，总额为8.57亿欧元。第三季度该公司出货量为54套新的和5套二手系统，第二季度出货了65套新的和4套二手系统。

ASML的首席执行官Eric Meurice表示，“闪存芯片厂商在引领趋势，它们有短期产能需求，而且在转向以45和55纳米节点技术生产的产品。中期来看，DRAM价格压力正在促使内存厂商转向成本效益更高的技术，浸没系统和工厂从200毫米转向300毫米设备将支持上述趋势。”出于这个原因以及该公司预期，来自晶圆代工厂商的订单将会增长，Meurice表示他预计第四季度订单将超过第三季度

作者: tarco 时间: 2007-11-7 10:24
哈哈哈
不過asml算是很厲害的公司

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