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标题: Veeco推出新的INSIGHT三维原子力显微镜 [打印本页]

作者: gb936    时间: 2007-12-30 04:32
标题: Veeco推出新的INSIGHT三维原子力显微镜
Veeco推出新的INSIGHT三维原子力显微镜


    Veeco Instruments公司宣布推出新的InSight™三维自动原子力显微镜(AFM)平台,特别是在45nm和32nm的半导体工艺中,需要非破坏性、高分辨率的三维测量方法,AFM计量系统被当作唯一的工具用于快速检测生产厂的产品质量。Veeco的InSight 3DAFM的设计针对性强,满足生产环境中对关键尺寸(CD)、厚度和CMP的测量。

Veeco CEO John R. Peeler表示,相对于我们以前的AFM,InSight 3DAFM的单位测量数量翻了两番,每小时能检测30块晶片,测量精准度也增加了一倍;因此,它是半导体三维测量的最新方法。

在当今市场上,它是唯一能提供在线式、精确、非破坏性的三维测量工具,可以缩短工艺开发和全面投产的时间,以提高客户的拥有成本、降低他们的制造风险。Veeco自动AFM业务部门副总Paul Clayton说,在45nm或更先
先进的工艺中,现有的在线式测量技术仅限于使用CD计量法,像CD-SEM和散射仪等技术测量很精确但不够正确,会带来严重的测量问题。总之,Veeco InSight可以将CD计量法的测量不确定性降至最低,从而提高工艺的可控性。


什么是InSight 3DAFM?

InSight 3DAFM是一款全新的计量平台,专为满足45nm和32nm半导体工艺对计量应用的迫切需要而设计的,比如关键尺寸(CD)、侧壁腐蚀角、关键层上的线宽粗糙度(包括栅结构和FinFet结构)。

该系统包括:精确度增强的高精度X-Y平台,以及带高精度自动聚焦功能的图案识别系统,这两个是新加入的。此外,新的AFM控制技术和新的探针设计有助于提高精度、降低测量点的平均测量费用,并减小图像特征测量的面积。最后,系统的稳定性得到重大的提升,可以满足基于45nm生产工艺的计量需求。




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