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标题: 设计5层AR膜优化出现问题啦！帮帮忙啦！！ [打印本页]

作者: fawang 时间: 2008-1-17 23:22
标题: 设计5层AR膜优化出现问题啦！帮帮忙啦！！
我用ZRO2(2.0)和SIO2(1.46)设计5层AR膜，为W膜，目标为440NM=0,510NM<0.5,615NM=0,基板GLASS(1.50),用TFC模拟，可为什么总是

在优化时出现“iterations have not converged yet,press continue for more”，按continue没什么反应，按很多次值还是一样

的：或者出现“stopping criteria met”,出来的优化值虽然都是W膜，但都是反射在4％以上呀！为什么会这样？怎样解决呀？优化

时需要什么样的技巧呀？各位大侠，帮帮忙呀！！！！！！！！！！谢谢呀！

作者: zzzz 时间: 2008-1-18 10:18
总是你的哪里设置有问题
你怎么讲,没碰上的人如何知道是嘛事.

作者: nilaysoft 时间: 2008-1-18 12:23
一个很大的可能就是TFC的target没有设置好，试着调整一下。

另外，你可以把TFC的文件attach上来，大家就可以更好的帮你出主意了。否则只能猜猜猜。

作者: HGcoating 时间: 2008-1-18 15:38
设置值不对。所以为出现以上问题。提议把软件好好学下，还有薄膜设计原理。

作者: fawang 时间: 2008-1-18 22:59
哈哈，是因为我出射介质改成AIR啦，而背面也没有镀膜，所以有反射存在，谢谢大家这么热心！不过还是想向大家请教一下一些优化的心得或技巧，比如象我上面的要求，我若初始设计为L0.2H0.2L2HL，target选离散的，就是上面的3个点，可优化出来还是510nm还是大于0.5%，各位大侠，能否模拟一下，若成功，能否告诉我一下细节：比如target怎么设置的呀？优化设置选什么方式？设置值是多少呀？有用到什么隧道优化之类的东东没？谢谢呀！！！！！！！！！！

作者: niechunyang 时间: 2008-1-20 17:54
这个是有经验的才行呀，要好好学习呀，我也不太动呀

作者: 木子李 时间: 2008-2-26 18:34

作者: zzzz 时间: 2008-2-27 08:38
嘿嘿
你把510的TARGET改为0不就可以了吗

作者: nation 时间: 2008-7-1 05:56
软件只是一个工具，只有理论知识足够的时候才会听你的，就有人用4层TIO2 SIO2优化出420-680R《0.2%的结果。

作者: punl 时间: 2011-11-6 23:27

nation 发表于 2008-7-1 05:56
软件只是一个工具，只有理论知识足够的时候才会听你的，就有人用4层TIO2 SIO2优化出420-680R《0.2%的结果。 ...

兄弟,优化容易,镀出来就不容易了.

作者: tfc 时间: 2011-11-7 15:06
不要迷信层数少就是好设计

作者: 缘睐汝痴 时间: 2011-11-7 15:38
大家说的各有各的道理啊

作者: cxm05371 时间: 2011-11-12 13:53

作者: 272813953 时间: 2011-11-15 21:29
优化出来不一定是好的工艺啊!!!要镀出来才是好工艺啊

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