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标题: 镀膜材料材料(TIO2和SIO2)的折射率与温度及真空度之间的关系 [打印本页]

作者: dongbeiren 时间: 2008-4-28 10:07
标题: 镀膜材料材料(TIO2和SIO2)的折射率与温度及真空度之间的关系
论坛上高手比较多!我有困难需要各位帮助.
那位有关于TIO2和SIO2的折射率与温度或成膜温度之间关系的技术文章?国内的和国外的都可以,小弟需要学习一下.或者关于设备(电子枪蒸镀)成膜均匀性方面的文章都可以!!!拜托了,谢谢了.我急着用!!!

作者: zzh1011 时间: 2008-6-6 11:24
标题: 成膜均匀性方面的文章

大口径镀膜机均匀性分析.pdf (182.51 KB, 下载次数: 191)

光學薄膜厚度修正擋板的設計.pdf (200.54 KB, 下载次数: 160)

作者: qx__wei 时间: 2008-6-11 09:04
下载了，我用的是2050的机子，均匀性一直不好！

作者: qx__wei 时间: 2008-6-11 09:05
除了MASK的形状外，其他的影响因素都包括哪些！？谢谢，请指导！！！

作者: yoyo5426 时间: 2009-5-11 18:04
4# qx__wei

主要的就是sio2的蒸发速率和电子枪功率的控制！

作者: yoyo5426 时间: 2009-5-11 18:12
那位高手指点下镀膜机光路的调整！
谢谢！

作者: fan_wl 时间: 2009-5-11 18:43
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作者: zll0605 时间: 2009-5-19 11:09
呵呵谢谢了，下来看看

作者: 007foxhot 时间: 2009-5-19 12:08
好好学习学习~~~谢谢

作者: trust$ 时间: 2009-5-20 22:14
好东西，学习学习。。。。。

作者: hannibal159 时间: 2009-5-21 17:23
我觉得应该是真空度越高，环境越干净，那么膜层致密度就可能高些，那么N应该也高一点吧至于温度也差不多，应该是温度高了以后的话成核率就高，N也大但是温度还是不要太高

作者: chunweili2008 时间: 2009-5-22 16:00
好好学习学习~~~谢谢

作者: 宇宙深处 时间: 2009-5-23 08:35
光源电压一定要稳定！！，镜头上的灰尘及时清除

作者: ivanrich 时间: 2009-5-27 11:03
thanks for ur information

作者: maxiao23 时间: 2009-5-27 18:17
送你一点薄膜的基本资料，希望会对你有用

薄膜基本资料.doc

64 KB, 下载次数: 24, 下载积分: 光电贝 -10 元

作者: 289665696 时间: 2010-3-19 14:21
DFHHGHKHJKJLHJLKLHGHJGFJHF

作者: gegelibin 时间: 2010-3-19 18:01
好东西，学习学习
暗暗

作者: gegelibin 时间: 2010-3-19 18:05
在侃侃好东西，学习学习。。。。。

作者: wang001 时间: 2010-3-26 15:19
謝謝~又多學習到了知識~

作者: AR_coating 时间: 2010-3-30 02:47
Proper O2 flow is required. Too much O2 will decrease packing density. Less O2 will affect refractive index in the long run.
Substrate heating is necessary for higher packing density.
IAD can help to improve packaging density if you have.
Vacuum level can affect tooling factor significantly.

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