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标题: 光刻刻蚀光学件加工 [打印本页]

作者: hideslight 时间: 2008-4-29 22:35
标题: 光刻刻蚀光学件加工
光刻刻蚀压摸光学件加工

高精度光学元件

我们公司依据现有光学元件加工技术,开展了一系列的光学元件加工工艺.根据市场对光学产品高精度,高质量,高产量的需求，
将我们能为大家提供的产品介绍如下,以供大家需求.

1.光刻模版设计制作。
      我们可以根据客户具体要求,客户来图(任意图形软件电子版),进行掩摸设计,掩摸制作,掩摸尺寸根据客户需求而定.
      制作掩摸最小线宽2微米.精度正负0.2微米,最大面积320mmX320mm。

      2.光刻产品
我们有国内比较先进的光刻设备,有成熟的光刻工艺和制作高精度光学产品的能力,主要光刻产品有:光学衍射元件,码盘,
光栅,闪耀光栅/分划版,分辨率版等,刻蚀材料包括:硅,锗,石英,k9玻璃,塑料等光学材料..
能做到最细线宽2微米。周期4微米。最大面积320mmX320mm.

   3.光学模具制作应用比较先进的设备进行图形成型,然后再进行模具加工,模具加工产品主要包括:球面镜,柱面镜,非球面镜,相位光栅,闪耀
光栅等.
   4.光学元件注塑
   我们对外承接光学元件注塑,注塑元件镀膜等业务.注塑产品包括:球面镜,柱面镜,非球面镜,相位光栅,闪耀
光栅等.

   5.腐蚀件制作
      对外承接硅,锗,k9.石英,铜,铝,铬,氧化硅,金等材料图形制作和腐蚀.图形可以包括线条,图案等.
同时提供湿发腐蚀所用竹镊子.

6、提供表面检测（二维和三维，动态图形检测）

联系人:刘先生.
电话:13980790200
   13778107102
QQ：103731367
邮件:hideslight@yahoo.com.cn

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线宽1微米

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边长2微米

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线宽1微米

作者: hideslight 时间: 2008-5-10 09:15
顶班.

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