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标题: 询问：有谁做过磁控溅射方式来镀光学薄膜方面的研究吗？ [打印本页]

作者: wwl 时间: 2008-6-11 20:48
标题: 询问：有谁做过磁控溅射方式来镀光学薄膜方面的研究吗？
询问：有谁做过磁控溅射方式来镀光学薄膜方面的研究吗？希望交流一下。

作者: hill1121 时间: 2008-6-12 13:57
磁控溅射以前主要是应用在大面积镀膜，现在高端光学膜方面也逐步应用了
比起蒸发还是有很多优点的

作者: zheng 时间: 2008-6-13 19:39
磁控溅射主要优点是稳定，再现性非常好，但相对于蒸发镀膜也有很多缺点，第一是维修和保养，每清扫一次机器就要相对于3台蒸发镀膜机的工作量和人手。第二是面精度，现在镀膜要求的面精度越来越严格，但磁控溅射镀出来的面精度比蒸发镀膜差多了。

作者: xbimr 时间: 2008-6-16 09:43

原帖由 zheng 于 2008-6-13 19:39 发表
磁控溅射主要优点是稳定，再现性非常好，但相对于蒸发镀膜也有很多缺点，第一是维修和保养，每清扫一次机器就要相对于3台蒸发镀膜机的工作量和人手。第二是面精度，现在镀膜要求的面精度越来越严格，但磁控溅射镀出来 ...

请问楼上是用什么磁控溅射镀膜机？ Shincron RAS 还是Leybold helios那种？

磁控溅射和蒸发镀的维护保养频率大致会差别多少？您所说的“每清扫一次机器就要相对于3台蒸发镀膜机的工作量和人手”是在什么情况下得到如此结论？

面精度差，主要是对什么形状的基片来说的？

个人感觉磁控溅射的优势之一可能是体现在产能大方面，这样成本可能更小，以及薄膜质量方面；毕竟磁控溅射制备光学薄膜也是趋势之一。

[ 本帖最后由 xbimr 于 2008-6-16 09:45 编辑 ]

作者: huweiqian 时间: 2008-6-24 23:02
这要看做什么薄膜，不是所有的薄膜都用溅射合适。最近，听说光洁度不好的原因是硅靶造成的，解决的方法得从硅靶着手考虑。LEYBOLD的溅射比较适合做WAFER的东西吧，镀膜有效面积也不大啊。

作者: wazxq 时间: 2008-6-24 23:29
非常多层时候比蒸发好。

作者: AppliedThinFilm 时间: 2008-6-25 00:12

原帖由 wazxq 于 2008-6-24 23:29 发表
非常多层时候比蒸发好。

喔？为何是非常多层是，磁控溅射有利呢？
反应磁控溅射的氧分压控制是个比较麻烦的问题，通常有等离子体光谱反馈控制、阴极电压反馈控制和氧分压直接控制，哪位能对这三种方法，或其它方法做个点评。

作者: xbimr 时间: 2008-6-25 11:17

原帖由 AppliedThinFilm 于 2008-6-25 00:12 发表

喔？为何是非常多层是，磁控溅射有利呢？
反应磁控溅射的氧分压控制是个比较麻烦的问题，通常有等离子体光谱反馈控制、阴极电压反馈控制和氧分压直接控制，哪位能对这三种方法，或其它方法做个点评。

谈谈个人观点：

反应溅射的优点主要体现在：A 采用便宜的金属靶材，B 便宜的直流或直流脉冲电源，而不是射频电源，C 以及高的沉积速率，提高产能；D 方便调薄膜的化学计量比。

但反应溅射的确过程控制是一大难点，主要体现在两方面：一方面随溅射过程进行，靶面刻蚀形貌改变，相应的电压、电流、功率会有所改变，导致了等离子状态会产生漂移，这需要从阴极以及电源控制上想解决方面；另一个方面，反应溅射过程中，过渡状态区域，本身是一个本征非稳定过程，目前主要采用闭环方式控制解决这个问题：

关于闭环反馈方式：又大致分几种方式：如等离子体光谱反馈PEM反馈，电压反馈，和氧分压反馈、背景残余气体反馈等等。

PEM反馈：优点点是反应速度快，可以多点检测和控制，适用膜系广；缺点就是对控制器数据处理能力的要求高，因而成本较贵。

靶电压反馈：优点技术简单，成本便宜，缺点是只适用少数几个压降变化显著的膜系，比如氧化硅、氧化铝等；此外，反馈信息是整个靶面的信息，解决均匀性方面无良策。

此外，也有氧分压反馈（主要为莱宝光学采用）、背景气体反馈等，现在的一个趋势是，反应溅射过程精确控制较难，在要求高的情况下，可以采用几种方式同时监控反馈，以达到更佳的稳定状态，这个主要取决于工艺要求和成本预算之间的权衡。

纯属个人观点，以供参考。

作者: xbimr 时间: 2008-6-25 11:22

具体关于反应溅射控制模型方面的理论资料，可以参考查阅瑞典乌普萨拉大学berg教授在80年代所做的经典文献或模型。

作者: wazxq 时间: 2008-6-25 12:15

作者: huweiqian 时间: 2008-6-25 22:22
我这里有一份一家公司的溅射设备资料，由于容量太大，不能发到论坛上来。如果你们的邮箱可以接收15MW以上的附件，请给我发邮件，我会直接给你们发资料。huweiqian2006@163.com

作者: huhu 时间: 2008-6-28 10:12
标题: 回复 11# huweiqian 的帖子
能否给我发一份。先谢过了:)
E-mail: anihcir@hotmail.com

作者: huhu 时间: 2008-6-28 10:54
毕竟溅射机型源与基板的距离相对较近，而且能量偏大，表面质量的控制明显较蒸发机型压力大。

再现性较好，规模连续生产的优势较大，生产流程也比较好控制。柔性不足，材料选择面较小，更换复杂。

作者: Hellen_vac 时间: 2008-6-28 11:20
回复 11# huweiqian 的帖子
也给我发一份。
E-mail: hellen_0428@sina.com

作者: liutingming 时间: 2008-6-28 15:34
hao!haohao! ..................................

作者: AppliedThinFilm 时间: 2008-6-28 20:44

原帖由 huhu 于 2008-6-28 10:54 发表
毕竟溅射机型源与基板的距离相对较近，而且能量偏大，表面质量的控制明显较蒸发机型压力大。

再现性较好，规模连续生产的优势较大，生产流程也比较好控制。柔性不足，材料选择面较小，更换复杂。

您提到的这个表面质量控制问题，能说的更细点么？谢谢

作者: nation 时间: 2008-6-29 16:27
有好也有差的地方，没有东西只有好处没有坏处的。

作者: huweiqian 时间: 2008-6-29 19:35
由于资料较大，大家留下的邮箱要能够接收10M附件的邮箱，否则没有办法传过去。

作者: xbimr 时间: 2008-6-30 18:50
5301929@qq.com
thanks！

作者: nation 时间: 2008-7-3 23:01
有溅射镀光学膜的很多啊关键是你是什么设备。

作者: huweiqian 时间: 2008-7-7 08:51
相关的资料已发，大家有什么问题，可以多沟通了。

作者: huhu 时间: 2008-7-8 21:40
标题: 回复 21# huweiqian 的帖子
资料已经收到，非常感谢！

作者: xbimr 时间: 2008-7-9 08:15

原帖由 nation 于 2008-7-3 23:01 发表
有溅射镀光学膜的很多啊关键是你是什么设备。

如果方便，这位仁兄请介绍下现在国内主要用溅射做光学膜的类型和设备哈，也算大家交流下。

作者: huweiqian 时间: 2008-7-16 20:38
国内目前用的比较多的可能是日本新科隆的RAS系列吧，做的就是民用产品上用的那些常规薄膜，比如IR CUT等。另外，不知道莱宝的溅射设备有没有在高精密光学上使用？AML的CFM系列也已经有几家单位在采用。

作者: ferry 时间: 2008-7-31 17:07
不知道，用磁控溅射镀膜，比如ＩＲ－ＣＵＴ．膜层厚度如何监控啊．也用的同蒸发镀膜一样的．

作者: acdc_1 时间: 2008-8-4 21:00
huweiqian
我要一份，谢谢！
yanlijie_1@126.com

作者: wonder288 时间: 2008-8-5 15:48
标题: 我要一份，谢谢！
liujie288@yahoo.com.cn
我想做脉冲磁控溅射电源，用来改装我们的机器。

作者: swift 时间: 2008-8-6 13:39
能发给我一份么?大虾!
先谢过了!
love_76@sina.com

作者: xbimr 时间: 2008-8-6 14:16
看来磁控溅射也是趋势之一，leybold几年前开发了helios系列，shicron开发了ras系列，optorun也发布了HSP系列
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http://www.optorun.co.jp/chinese/news/080122.htm

2008年01月22日

高性能，高品质光学膜制造用溅射镀膜装置HSP-1650开发完成

  经过不懈的努力，我公司成功地开发出包含渐变折射率滤光膜在内的高性能，高品质光学薄膜用溅射镀膜机。

开发历程：
  长期以来，我公司一直专注于真空镀膜机及相关部件的设计和制造。为了更好地满足客户的需求，我公司发挥装备制造和工艺开发上的优势，对更高层次的设计理念进行了实践。
  在溅射方式上，我们采用了Meta-mode溅射镀膜方式，加上Load-lock室，基板搬运机构，回转的圆筒形靶材，以实现高性能的设计理念。
采用圆筒型靶，同时进行了各种靶材的开发。现在，针对光学薄膜所需要的各种材料，能提供块形靶和喷涂形靶。
特点：
  本装置不仅能用于生产普通的光学薄膜（通常所说的高低折射率材料交叠而成的多层膜），而且还能使用两种靶材按照设定的比率进行同时溅射，稳定地制作出任意中间折射率的膜层，也就是通常所说的渐变折射率膜系（在厚度方向上，折射率连续变化的膜系）。使得该装置成为一种具有更多用途的光学膜用高性能溅射镀膜机。
其主要特点如下：
＊最多可使用3种靶材，适用于多种膜系的生产。
＊采用圆筒回转式溅射靶，异常放电少，抑制了膜层缺陷的产生，更有利于成产高品质的多层膜。
＊设备外部调节式可变补正板设计，满足了高品质，稳定量产的需要。
＊采用Meta-mode溅射方式，可镀金属，中间反应物质，完全反应物质。
＊采用独特的装载室和基板运送方式，无论是科学研究还是批量生产，均可高效运转
＊适用于生产各种光学多层膜，中间折射率多层膜，渐变折射率多层膜，金属膜
目标客户：
开发新型光学膜的厂家及研究单位
大规模生产的光学膜生产厂家准备进入新型光学膜市场的顾客
用途（渐变折射率滤光片）等资料：
（以RGB分色滤光片为例）
  通常的多层膜滤光片，即使只做一个波长的负滤光片也是困难的。使用渐变折射率，可以同时制作3个激光波长且任意反射率的滤光片，并且透过带的纹波非常小。用通常的多层膜方式几乎不可能做得到。

（阶梯滤光片的例子）
  下面是阶梯状滤光片的例子。像这种任意光谱的滤光片也能制作。

（泰姬陵滤光片的例子）
  1978年，Dobrowolski教授开始用建筑物的外形作为目标光谱来设计滤光片。泰姬陵滤光片在历史上非常有名，因为其光谱十分复杂，所以成为膜系设计的典型例子。但是一直以来，无法按照该设计制作出实际的产品。
  采用我公司的HSP-1650溅射镀膜机，很轻易的地实现了泰姬陵滤光片的镀制。

  以上的成膜实例表明，该溅射镀膜机不仅能制作极复杂光谱的滤光片，而且透过带纹波几乎为零，借此为开创新的光学薄膜领域提供了可能。

[ 本帖最后由 xbimr 于 2008-8-6 14:19 编辑 ]

作者: lsx2121 时间: 2011-12-19 00:26
不做的话题，支持一下，对于AML 的设备磁控溅射方法做光学膜是否有了解的，谢谢？

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