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标题: 讨论如何脱膜！ [打印本页]

作者: fawang 时间: 2008-7-21 22:05
标题: 讨论如何脱膜！
请大家讨论一下不同膜层（材料）的所用的脱膜剂，脱膜工艺（在超声波中脱还是直接泡在溶液里，溶液配比等）之类的。比如MgF2 H4 SIO2 AL2O3 TIO2用什么脱膜剂脱膜呀，大致的工艺是什么呀？请大家踊跃发表自己的经验，不要吝啬哟!

作者: fawang 时间: 2008-7-25 22:47
看来我先抛砖引玉一下吧，我听过可以用一种WIN－18的清洗剂，采用超声波洗净工艺，可以去除MGF2、AL2O3，控制温度和时间可以去除不同的厚度，我没去洗过，所以具体的细节也说不清楚，恐怕让人怡笑大方拉！

作者: 霹靂貓 时间: 2012-8-9 10:29

fawang 发表于 2008-7-25 22:47
看来我先抛砖引玉一下吧，我听过可以用一种WIN－18的清洗剂，采用超声波洗净工艺，可以去除MGF2、AL2O3，控 ...

Win-18(山之風的強鹼脫膜劑).我長期使用-對去除MgF2.AL2O3效果非常好.原液加熱50度.時間自行控制.一般單層膜10~20秒就可去膜干淨

作者: xiaohuilee 时间: 2012-8-9 11:08
这个我也用过不过要是控温之类的有些麻烦了直接在WIN18溶液里超声波浸泡常温即可根据膜层的厚度来判定具体浸泡时间

不过只能去除 sio2 MGF2 AL2O3这些 H4 TIO2都不行了要用氟化氢铵才能去除

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