光电工程师社区

标题: 膜層再現性不佳 [打印本页]

作者: cherryu 时间: 2008-10-11 13:31
标题: 膜層再現性不佳
請問各位有遇過這個問題嗎？
膜層偶爾會跑掉（不是波長飄移而是波形整個不對了）,（但卻不是常態）
但我用的是萊寶的機台（我師父說不太可能是機台的問題）
而每次模擬跑掉的膜層都是H少鍍或多鍍
會不會是材料的問題呢？
各位有甚麼好的驗證方法或經驗可否提供給我參考一下
感激不盡

作者: lunik 时间: 2008-10-11 15:57
镀什么类型的膜都没说,怎么让别人帮呢?

作者: cherryu 时间: 2008-10-11 18:56
我是鍍最簡單的AR膜層(5層)
用Si和nb~

作者: zzh1011 时间: 2008-10-11 21:36
加IAD没有呀！估计还是和镀H工艺有关了！

作者: 宇宙深处 时间: 2008-10-12 12:24
原因会有很多比如:
1、起始真空不一样；2、熔药不佳；3、膜层太薄监控不准（或监控有问题）；4、遮板、修正板是否有异常（溢镀量的不同）；5、镀材是否受潮；等等。

作者: cherryu 时间: 2008-10-12 21:08
谢谢你们的回答~
zzh1011~IAD是什么?不好意思我是初学者不大懂^^
宇宙深处~请问起始真空不一样指的是?每次的镀膜时真空值的差异吗?

作者: shaodong1311 时间: 2008-10-12 22:05
楼上用的是光学监控还是晶振片监控

作者: shaodong1311 时间: 2008-10-12 22:07
要是光控，对镀AR膜就不太准了，有很多误差。
对材料的高低也要严格啊，不能有高有低

作者: cherryu 时间: 2008-10-12 22:52
是石英振荡片(应该就是晶振片吧)^^
不好意思再问一个问题
跟蒸镀速率快慢有关吗?

作者: xiaoniu 时间: 2008-10-13 09:03
晶振控制,更多的是材料氧化不充分所致.

作者: zzzz 时间: 2008-10-13 09:40
反应磁控镀?
5层的设计是否有较薄册层.
反应和控制精度有影响稳定性.

作者: zzh1011 时间: 2008-10-13 15:26
IAD---离子辅助沉积！问题解决没有呀！

作者: cherryu 时间: 2008-10-14 00:57
我有用離子助鍍!
今天測試Q4,用相同recipe但1.2組和3.4組結果卻都不同

頭有點痛><

作者: zzh1011 时间: 2008-10-14 23:04
还是应从工艺上着手，如IAD充气时的流量，预料时间，蒸发时的位置，许多因素都可能改变膜层的性质。光学镀膜工艺上来说没有绝对的，只有相对而言。有些还是只有自己摸索，还有就看你师父给不给你说说他的精练。

欢迎光临光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/)