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标题: 请问下下反射光量值计算的问题 [打印本页]

作者: Lxykoko 时间: 2008-11-3 15:22
标题: 请问下下反射光量值计算的问题
最近做一个5层的膜系，MGF2和H4，前3层都比较少，所以每层用一个比较片，请问如果只用一位比较片就镀完光量值该如何计算呢？谢谢！

作者: qjy 时间: 2008-11-3 15:32
呵呵！俺只知道有的膜系设计软件如老麦的可一计算，但是你这个看起来应该是个非规整膜系，要用一片监控片监控多层恐怕不容易实现！

作者: tfc 时间: 2008-11-3 16:33
M、T都可以计算，但你有这么好的光控吗？如果有，再谈怎么算。

作者: jhxxmlhk 时间: 2008-11-3 16:57
厚度太薄的话光量没有极值点,根本控制不准确的.人为判断停镀点是很难的.折射率变了后光量值就变了,人脑可计算不了那么快!

作者: qjy 时间: 2008-11-3 17:10
就是的，用光控监控很薄的膜层本来就很困难，还想一片监控片监控几层，谈何容易呀！

作者: zzzz 时间: 2008-11-4 08:45
对于薄的膜,每层用一片和一片多多层没多大区别

作者: tfc 时间: 2008-11-4 10:50

原帖由 jhxxmlhk 于 2008-11-3 16:57 发表
厚度太薄的话光量没有极值点,根本控制不准确的.人为判断停镀点是很难的.折射率变了后光量值就变了,人脑可计算不了那么快!

其实晶振也是一样的道理，当我们试镀成功后为什么可以镀产品？所以我们得重新编写光控程序，用现有的是不容易控制，试镀比较多，但还是有成功的案例。

作者: Lxykoko 时间: 2008-11-4 11:31
标题: 我晕了
我们用的是下反射，经常光量走的幅度都不一样，有6位比较片的我们都是每层用一位的，关键是有台设备只有一位比较片，我看人家也用一位做过，但他们用的是上反射的，他们有个软件可以直接算上反射的

作者: qjy 时间: 2008-11-4 13:15
哈哈！你们是什么时候的设备呀？只有一位比较片？应该退役了吧！不行把光控改造一下呀！让您用这样的机器做多层膜，确实有些难为您了

作者: Lxykoko 时间: 2008-11-5 16:51
标题: 现在公司没啥钱撒
最近活又少，老南光机了，又舍不得花钱改造呀

作者: 280345601 时间: 2008-11-5 23:10
要是做出来！老兄你可以跳槽了

作者: Lxykoko 时间: 2008-11-11 16:12
标题: 往哪跳？
现在这么多厂都没活干呢，我想到一个办法，准备过两天没活干了开始试，哈哈

作者: kingpeter 时间: 2008-11-11 17:33
我这可以计算，哪位需要，我可帮忙

作者: Lxykoko 时间: 2008-11-14 16:37

原帖由 kingpeter 于 2008-11-11 17:33 发表
我这可以计算，哪位需要，我可帮忙

老哥，你QQ号多少？我的183603818，加我呀，请教一下

作者: yzhuang 时间: 2008-11-14 21:23
理论上应该可以的,你可以先用TFC软件模拟一下,不过前提是你的膜层折射率不能变化太大

作者: molang2003 时间: 2008-11-14 23:57
用光控来提高薄膜层的方法，放大这层的光控位置与零件的比例参数（对修正板的使用），能提高一定的控制精度。我也是这样做的，还是有效果的呢。

作者: 破冰而出 时间: 2008-11-18 08:27
15楼，你说的膜层N变化过大，具体指什么意思。不同膜料N肯定不同，请教下

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