光电工程师社区

标题: 请教脱膜问题 [打印本页]

作者: feifeilove 时间: 2008-11-17 16:48
标题: 请教脱膜问题
用离子束辅助轰击镀铬膜，镀出的膜在灯下看很好，但轻轻擦拭后会出现数十微米的星星点点的针孔，请问这问题出在哪
真空室，基片处理干净
另外请问霍尔离子源轰击时，阳极电流多大比较好

作者: zzzz 时间: 2008-11-18 08:08
CR要熔好
它熔点高熔好不易

作者: 涛哥 时间: 2008-11-18 11:57
电压180伏特，灯丝电流3安培，离子束流0.5安培

作者: bomolaonan 时间: 2008-11-18 15:26
问题应该出现在设备上，而非工艺本身

作者: mass 时间: 2008-11-18 20:28
1清洗设备,2提高烘烤温度

作者: yzhuang 时间: 2008-11-18 22:20
我们的经验是镀铬分两次镀,这样出现针孔的机率会小很多

作者: zzzz 时间: 2008-11-19 08:25
楼上的明显投机取巧
但也可能会碰到楼主的问题

作者: chris_yun1113 时间: 2008-11-19 11:33
建议采用离子源辅助一下

作者: onet7575 时间: 2008-11-20 09:50
加个轰击棒效果会好很多,还有镀金属膜的时候最好不要擦,没加保护膜的肯定一擦就掉.

作者: zzzz 时间: 2008-11-20 10:12
到底是轰击棒好还是离子源好
C楼和O楼PK下

作者: 缘睐汝痴 时间: 2011-12-1 11:13
什么是轰击棒呢，还没有见过

作者: 243667046 时间: 2011-12-1 13:43
要保证基片清洗、储存、传递等过程中不要被灰尘污染，再就是真空室卫生，熔药

作者: 272813953 时间: 2011-12-4 16:34
是不是药熔的不好，有喷药啊！！！

欢迎光临光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/)