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标题: PECVD技术制备氧化硅薄膜光学性能？急 [打印本页]

作者: luoluo520 时间: 2009-3-4 16:31
标题: PECVD技术制备氧化硅薄膜光学性能？急
1.PECVD技术来研究SiO2薄膜的光学性能（折射率，消光系数），不同的工艺参数（温度、气体流量、射频功率等）对SiO2薄膜的光学性能的有什么影响？影响光学性能的主要因素是什么？
2.研究PECVD技术制备SiO2薄膜的光学性能的背景和意义分别是什么？

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